鈦蝕刻液
鈦蝕刻液(Ti Etchant) 提供高品質的蝕刻液。應用於 ... 具有高蝕刻選擇比、低(undercut)、高bath loading/bath life、易於操作使用、低成本、製程廢液容易處理等特色。 ,化學品名稱：鈦蝕刻液Titanium Etchant TFTN. 其他名稱：雙氧水. 建議用途及限制使用：半導體製程之金屬蝕刻液。 電子製程之鈦蝕刻液。 製造者、輸入者或供應者 ... , 高效能鈦皮膜去除劑&蝕刻液 簡介: 針對鈦熱鑄模後產生的(硬化)氧化皮膜，能快速、有效的將其去除掉；只需在極短時間內,就反應完成。 成份: 特殊鈦 ...,根據客戶製程上的需求，我們提供不同蝕刻速率的產品。 如快速型的鹼性氨銅蝕刻液和穩定型的酸性(硫酸、磷酸)蝕刻液。 STE 系列, STE 鈦蝕刻系列，包含了酸性與鹼 ... ,在UBM蝕刻製程中，根據不同的UBM金屬層種類和厚度、蝕刻液之化學特性、凸塊 ... 微電子工業上常用的鈦蝕刻液，大部份採用以氫氟酸為基礎的溶液，此種蝕刻液不 ... ,使用於晶圓級封裝製程中UBM層(Ti or TiW)蝕刻、且能有效的針對特定元素進行，避免傷害底材. ,首頁 > 核心產品 > 環保型金屬剝除劑> 鈦蝕刻液> TiST-800鈦剝除劑(半導體級) ... 因能防止雙氧水分解成氣體析出，故能大大地降低剝鈦過程中廢氣產生，對改善操作 ... ,產品名稱, 主要成份, 作業溫度, 適用機台, 產品應用. A85-1, 硫酸, 60~80°C, Spin Tool, 光電產業/IC封裝. Ti-890, 氟鹽聚合物, 24~40°C, Spin Tool, 光電產業/IC封裝. ,TE-168: 選擇性鈦蝕刻液(20L /桶) (H2O2 base selective Ti etching chemical) TE-F168: 含氟鈦蝕刻液(20Kg /桶)
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