opc psm
ABSTRACT. We propose a novel method for the fast synthesis of low complexity model-based optical proximity correction. (OPC) and phase shift masks (PSM) ... ,ABSTRACT. We propose a novel method for the fast synthesis of low complexity model-based optical proximity correction. (OPC) and phase shift masks (PSM) ... ,Resolution Enhancement Techniques : Part 2 Optical Proximity Correction (OPC), Phase Shift Mask (PSM ... ,在光罩的製作技術部分，大致可以分成傳統光罩、相位移光罩技術（ Phase Shift Mask；簡稱PSM）、光學近接修正光罩技術（Optical Proximity Correction；簡稱OPC）等 ... , 藉由採用光學接近校正(OPC)和相移光罩(PSM)等技術，積體電路設計和製造業向0.18微米及更小特徵尺寸推進的速度加快了，但是在採用新技術的 ...,The transmittance of the Att-PSM measured by ultraviolet-visible ..... 圖2.7 比較沒有做OPC 以及添加不同大小的OPC 圖案時，光罩的設計. 及模擬曝光結果與實際 ... ,◇Optical Proximity effect Correction (OPC) ..... 現今的PSM技術，最主要有交替式及減弱式等兩種 ... (a) 傳統式，及採(b) 交替式PSM，和(c) 減弱式PSM技術之. , 先進相移掩模(PSM)製造是極大規模集成電路生產中的關鍵工藝之一。 當設計尺寸(CD)為0.18μm時，就必須在掩模關鍵層採用OPC (光學鄰近校正) ..., 答：OPC （Optical Proximity Correction）為了增加曝光圖案的真實性，做了 ... 答：PSM （Phase Shift Mask）不同於Cr mask, 利用相位干涉原理成象， ...
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