曝光機種類
目前半導體生產使用波長 193 奈米的深紫外(DUV)曝光。實際上,製程發展到 130 奈米之前,有人就曾指出 193 奈米深紫外光會發生嚴重的衍射 ...,中華凸版及母公司-凸版印刷不斷投資電子束描繪機台,擁有先進的EBM6000 ... 光罩上的圖案微縮後經由曝光後反印至晶圓上。 ... 在半導體,如LSI,的製造過程中,在光罩的圖案被微縮並且多次在矽晶圓上曝光而步進機( 例如,微縮投影型曝光機) 移位,同時傳輸 ... 根據光阻的種類,也有在其中未曝光部分的光阻相對被移除(負光阻)。 ,Show-Fann Lin. Exposure. 曝光的種類有: 接觸式(contact printing). 近接式(proximity printing). 投影式(projection printing). 重覆步進式對準(step and repeat). ,光罩/倍縮光罩. 曝光. 顯影後. 負光阻. 紫外線. 正光阻. 基片. 基片. 基片. 光阻. 基片. 光阻 ... 對於相同種類的光阻,曝光後的烘烤經常比軟烘烤所需的烘. 烤溫度來的高.
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中華凸版及母公司-凸版印刷不斷投資電子束描繪機台,擁有先進的EBM6000 ... 光罩上的圖案微縮後經由曝光後反印至晶圓上。 ... 在半導體,如LSI,的製造過程中,在光罩的圖案被微縮並且多次在矽晶圓上曝光而步進機( 例如,微縮投影型曝光機) 移位,同時傳輸 ... 根據光阻的種類,也有在其中未曝光部分的光阻相對被移除(負光阻)。 https://www.tce.com.tw 黃光微影製程技術
Show-Fann Lin. Exposure. 曝光的種類有: 接觸式(contact printing). 近接式(proximity printing). 投影式(projection printing). 重覆步進式對準(step and repeat). http://semi.tcfst.org.tw 半導體製程技術 - 聯合大學
光罩/倍縮光罩. 曝光. 顯影後. 負光阻. 紫外線. 正光阻. 基片. 基片. 基片. 光阻. 基片. 光阻 ... 對於相同種類的光阻,曝光後的烘烤經常比軟烘烤所需的烘. 烤溫度來的高. http://web.nuu.edu.tw |