曝光機波長
根據Rayleigh's 法則,光學系統(例如曝光機)的解析度R的公式是:R= 0.6*(λ/NA) , NA= numerical aperture也就是說, 波長λ愈長, 則能解析的尺吋R愈大(解析力愈差). , 最樸素的多重曝光技術就是，做一次、再做一次，可以稱作LELE(Litho-Etch-Litho_Etch)，如下圖。 20180426NT01P2. 最上層是已經過一次Patterning ...,3. 曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機（stepper）。 前者一次曝光一整片晶圓（wafer），後者以步進重覆方式，一次曝光數個晶. 片 ... , 64、如何提高曝光機的解析度呢? 答：減短曝光的光波長, 選擇新的光源; 把透鏡做大,提高NA. 65、為什么光刻區 ...
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根據Rayleigh's 法則,光學系統(例如曝光機)的解析度R的公式是:R= 0.6*(λ/NA) , NA= numerical aperture也就是說, 波長λ愈長, 則能解析的尺吋R愈大(解析力愈差). https://tw.answers.yahoo.com 193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片？ - EDN Taiwan
最樸素的多重曝光技術就是，做一次、再做一次，可以稱作LELE(Litho-Etch-Litho_Etch)，如下圖。 20180426NT01P2. 最上層是已經過一次Patterning ... https://www.edntaiwan.com 微影照像
3. 曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機（stepper）。 前者一次曝光一整片晶圓（wafer），後者以步進重覆方式，一次曝光數個晶. 片 ... http://www.wunan.com.tw 關於黃光及其100個疑問，這篇文章已全面解答- 每日頭條
64、如何提高曝光機的解析度呢? 答：減短曝光的光波長, 選擇新的光源; 把透鏡做大,提高NA. 65、為什么光刻區 ... https://kknews.cc |