光阻剝離液
剝離液可應用於保持金屬線路及元件外型的完整，無破裂，並可多方向清除階梯 ... 製程-Array TFT 正型光阻及負型光阻去除IC / DRAM / Bumping 製程中光阻剝離。 ,剝離液可應用於保持金屬線路及元件外型的完整，無破裂，並可多方向清除階梯覆蓋之底部光阻，對於精密設計製程有很大幫助。其中不傷害基材及金屬元件保持特質 ... ,光阻剝離劑(ST-02). 產品規格表. 品項, Download. 光阻剝離劑(ST-02), SDS. 特化事業部北區業務-臧先生. [email protected]. 特化事業部南區 ... , 光阻剝離劑(Stripper-10). 產品規格表. 品項, Download. 光阻剝離劑(Stripper-10), SDS. 特化事業部北區業務-臧先生.,ACT CMI-S ACT® CMI-S 有機蝕刻殘留物和正型光阻剝離液是一款阻蝕水溶溶液，可去除腐蝕敏感的金屬合金基質上的有機蝕刻殘留物。本品為溶劑基礎型的產品， ... ,應用. Array製程為TFT-LCD之最主要技術，光阻剝離液在完成金屬或半導體薄膜線路之蝕刻製程後，作為剝離光阻的功用。 產品特性. 分為溶劑型及水性剝離液; 快速的 ... ,濕製程> 剝離液. 光阻為一間接材料，意即不會留在產品上，因此做完Mask角色后，就必須將它移除。 黃光後的製程，如：蝕刻或是電鍍，光阻都被視為hard mask使用。 ,因為負光阻產生交連作用(Cross-linking)，光阻比較不易去除，常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP (N-methyl-pyrrolidinone)。乾膜光阻去除(PR stripping)製程 ... , 廢光阻剝離液是什麼？基本上就是光電與半導體產業使用的一種有機溶劑。根據環保署調查結果，單一半導體工廠所使用的有機溶劑（含光阻劑和 ...,顯影液. 利用鹼性顯影液將光阻(PR, Photo Resist)經曝光後形成的有機酸中和、剝落，留下未反應的光阻圖案。 ... 不同的金屬，會使用不同的光阻剝離液來清洗光阻。
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