nmp光阻

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nmp光阻

... 比較不易去除,常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP (N-methyl-pyrrolidinone)。乾膜光阻去除(PR stripping)製程一般使用Wet Bench批次設備,如圖2所示為弘 ... ,(TMAH)、正-甲基-2-吡咯酮(NMP)以及二乙二醇單丁醚(BDG). 等,高沸點低蒸氣壓且具黏稠性之製程廢氣。但是在去光阻製程廢氣. 中,除了本身主要使用的 ... ,(TMAH)、正-甲基-2-吡咯酮(NMP)以及二乙二醇單丁醚(BDG). 等,高沸點低蒸氣壓且具黏稠性之製程廢氣。但是在去光阻製程廢氣. 中,除了本身主要使用的 ... ,通常光阻去除與化學品的選用有很大的關係,一般常見用於去除非金屬層光阻的化學品如硫酸加雙氧水或丙酮等,金屬層光阻會使用鹼性溶液加雙氧水、NMP、DMSO ... ,去除溶解度較高的光阻劑. 蝕刻. 移除未被光阻劑覆蓋的. 晶圓外膜. 剝除光阻劑. 擴散等表面處理 ... 特殊化性物質:NMP(或M-. Pyrol, n-mythyl-2-pyrrolidone). ,將NMP及其他致癌、. 致畸胎及生殖危害等. 物質列為管控物質,. 新材料盡量不使用. 去光阻清洗製程採用新的去光阻. 液替代,以超純水加二氧化碳替代. NMP, ... ,去光阻劑之主要成分:DMSO(dimethyl sulfuroxide)、MEA(methyl ethyl amide)、BDG、NEA (n,n-dimethylacetamide) 和NMP(n-methyl pyrrolidone)等屬於硫類、 ... ,半導體業N-甲基吡咯酮(NMP)暴露調查研究~ nmp 是用於metal 後去光阻常用的特用化學品. 汪禧年、林信行~ 原作者,. N-甲基吡咯酮( N-methyl pyrrolidinone,以下 ... ,2018年9月6日 — AZ® Remover 880光阻去除劑是默克採用全新配方、非基於會危害環境的NMP (N-甲基吡咯烷酮)化學品系列中的第一款產品,可滿足5G和先進晶 ... ,2018年9月10日 — AZ Remover 880光阻去除劑是默克採用全新配方、非基於會危害環境的NMP (N-甲基吡咯烷酮)化學品系列中的第一款產品,可滿足5G和先進晶圓 ...

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nmp光阻 相關參考資料
乾膜光阻去除 - 弘塑科技股份有限公司

... 比較不易去除,常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP (N-methyl-pyrrolidinone)。乾膜光阻去除(PR stripping)製程一般使用Wet Bench批次設備,如圖2所示為弘 ...

http://www.gptc.com.tw

國立交通大學機構典藏

(TMAH)、正-甲基-2-吡咯酮(NMP)以及二乙二醇單丁醚(BDG). 等,高沸點低蒸氣壓且具黏稠性之製程廢氣。但是在去光阻製程廢氣. 中,除了本身主要使用的 ...

http://140.113.37.243

國立交通大學機構典藏- 交通大學

(TMAH)、正-甲基-2-吡咯酮(NMP)以及二乙二醇單丁醚(BDG). 等,高沸點低蒸氣壓且具黏稠性之製程廢氣。但是在去光阻製程廢氣. 中,除了本身主要使用的 ...

https://ir.nctu.edu.tw

必須將基板表面上之光阻去除 - 弘塑科技股份有限公司

通常光阻去除與化學品的選用有很大的關係,一般常見用於去除非金屬層光阻的化學品如硫酸加雙氧水或丙酮等,金屬層光阻會使用鹼性溶液加雙氧水、NMP、DMSO ...

http://www.gptc.com.tw

晶圓的處理- 微影成像與蝕刻

去除溶解度較高的光阻劑. 蝕刻. 移除未被光阻劑覆蓋的. 晶圓外膜. 剝除光阻劑. 擴散等表面處理 ... 特殊化性物質:NMP(或M-. Pyrol, n-mythyl-2-pyrrolidone).

http://web.cjcu.edu.tw

永續產品 - TSMC

將NMP及其他致癌、. 致畸胎及生殖危害等. 物質列為管控物質,. 新材料盡量不使用. 去光阻清洗製程採用新的去光阻. 液替代,以超純水加二氧化碳替代. NMP, ...

https://www.tsmc.com

環保簡訊 - 中央大學

去光阻劑之主要成分:DMSO(dimethyl sulfuroxide)、MEA(methyl ethyl amide)、BDG、NEA (n,n-dimethylacetamide) 和NMP(n-methyl pyrrolidone)等屬於硫類、 ...

http://setsg.ev.ncu.edu.tw

自是人生長恨水長東-半導體業N-甲基吡咯酮(NMP)暴露調查 ...

半導體業N-甲基吡咯酮(NMP)暴露調查研究~ nmp 是用於metal 後去光阻常用的特用化學品. 汪禧年、林信行~ 原作者,. N-甲基吡咯酮( N-methyl pyrrolidinone,以下 ...

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默克推出全新系列環保光阻去除劑材料|新聞中心|台灣默克

2018年9月6日 — AZ® Remover 880光阻去除劑是默克採用全新配方、非基於會危害環境的NMP (N-甲基吡咯烷酮)化學品系列中的第一款產品,可滿足5G和先進晶 ...

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默克推新環保光阻去除劑材料 - Wa-People 產業人物

2018年9月10日 — AZ Remover 880光阻去除劑是默克採用全新配方、非基於會危害環境的NMP (N-甲基吡咯烷酮)化學品系列中的第一款產品,可滿足5G和先進晶圓 ...

http://www.wa-people.com