overlay機台
2018年11月15日 — Overlay是IC製造中的關鍵參數之，其意義是當層與前層圖案(pattern)間對準的精準度(圖1)。 各層元件之間的電路連結，例如從電晶體到接觸點到導電連接，都 ... ,式來改善不同機台間產生的匹配程度差異。 關鍵字：lithographic overlay、reticle、exposure grid map、high order correction(HOC) ... ,由 張仲豪 著作 · 2007 — 本文所提出之研究方法為結合歷史資料分析、卡曼濾波器(Kalman Filter)與最. 小變異控制器Minimum Variance Controller，MVC)三者，來對曝光機之Overlay. 輸入變數(機台參數) ... ,2020年5月19日 — 晶圓廠使用疊對量測(overlay metrology)技術來測量和控制生產製程中的圖案/ ... 由水平或垂直線組成的常規疊對目標無法提供這些疊對機台追蹤所需的 ... ,層疊(Overlay) 是用以量測一個微影圖案置於晶圓時的精準度，而在晶圓上先前已有定義過的圖案(參考圖1)。在刻印小圖案時，必須取得正確的特徵尺寸並準確地將特徵置於晶 ... ,本研究所用的三方法，都有效改善overlay 量測；以量測機台參數做調整，可以得到立即的改善，此為最快也是以最小的改變所能達到最大的效果，適用於現有異常改善；以光罩 ... ,作所造成的不確定度影響(Wafer Induced Shift-WIS)、不同量測機台的誤差(Tool ... 關鍵字：疊對量測(Overlay measurement)，TIS(Tool Induce Shift)，WIS(Wafer Induce. ,由 吳國裕 著作 · 2007 — 光阻塗佈與顯影機結合了許多功能的模組於一機台內，利用機器手臂傳送晶片至各模 ... Process Induced Shift, WIS），目前商品化之微影覆蓋量測機台（Overlay Metrology ... ,由 李安謙 著作 · 2008 — Advanced Process Control: Run-to-Run Control of Lithography Overlay. Process in Semiconductor Manufacturing ... 個曝光場作覆蓋誤差的測量，Overlay 機台的測量.
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EUV微影和Overlay控制詳解 - 電子工程專輯
2018年11月15日 — Overlay是IC製造中的關鍵參數之，其意義是當層與前層圖案(pattern)間對準的精準度(圖1)。 各層元件之間的電路連結，例如從電晶體到接觸點到導電連接，都 ... https://www.eettaiwan.com 中華大學碩士論文
式來改善不同機台間產生的匹配程度差異。 關鍵字：lithographic overlay、reticle、exposure grid map、high order correction(HOC) ... http://chur.chu.edu.tw 以卡曼濾波器及最小變異控制器實現微影製程 ... - 國立交通大學
由 張仲豪 著作 · 2007 — 本文所提出之研究方法為結合歷史資料分析、卡曼濾波器(Kalman Filter)與最. 小變異控制器Minimum Variance Controller，MVC)三者，來對曝光機之Overlay. 輸入變數(機台參數) ... https://ir.nctu.edu.tw 先進記憶體IC的疊對量測挑戰 - 電子工程專輯
2020年5月19日 — 晶圓廠使用疊對量測(overlay metrology)技術來測量和控制生產製程中的圖案/ ... 由水平或垂直線組成的常規疊對目標無法提供這些疊對機台追蹤所需的 ... https://www.eettaiwan.com 光學微影的新限制
層疊(Overlay) 是用以量測一個微影圖案置於晶圓時的精準度，而在晶圓上先前已有定義過的圖案(參考圖1)。在刻印小圖案時，必須取得正確的特徵尺寸並準確地將特徵置於晶 ... https://www.tsia.org.tw 國立交通大學機構典藏：微影製程疊對量測改善
本研究所用的三方法，都有效改善overlay 量測；以量測機台參數做調整，可以得到立即的改善，此為最快也是以最小的改變所能達到最大的效果，適用於現有異常改善；以光罩 ... https://ir.nctu.edu.tw 疊對量測不確定度評估 - AOIEA - 工業技術研究院
作所造成的不確定度影響(Wafer Induced Shift-WIS)、不同量測機台的誤差(Tool ... 關鍵字：疊對量測(Overlay measurement)，TIS(Tool Induce Shift)，WIS(Wafer Induce. https://aoiea.itri.org.tw 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏
由 吳國裕 著作 · 2007 — 光阻塗佈與顯影機結合了許多功能的模組於一機台內，利用機器手臂傳送晶片至各模 ... Process Induced Shift, WIS），目前商品化之微影覆蓋量測機台（Overlay Metrology ... https://ir.nctu.edu.tw 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 成果報告 期中進度 ...
由 李安謙 著作 · 2008 — Advanced Process Control: Run-to-Run Control of Lithography Overlay. Process in Semiconductor Manufacturing ... 個曝光場作覆蓋誤差的測量，Overlay 機台的測量. https://ir.nctu.edu.tw |