ocd量測
芯片制造商在28nm工艺节点以下引入finFETs三维电晶体结构，finFETs有着各种各样复杂的三维结构和而难以量测的薄膜，结构尺寸常常小于1埃(0.1纳米)。OCD ... ,BRAND： n&k; DESCRIPTION： 橢圓量測薄膜的厚度、折射率、消光係數、線寬、深度以及表面形貌. 原廠國家： 美國 製程應用： 量測薄膜的厚度、折射率、消光係數、線 ... ,本發明之實施例包括利用光學臨界尺寸(OCD)計量的待量測之結構之光學參數模型的最佳化將方法。其他實施例包括一結構之一光學模型的參數化之最佳化方法。 , 課程首先會介紹光學量測(OCD Metrology)的原理以及背景，並闡述光學量測如何使用在產線上，並與其他量測技術做比較。其次介紹先進製程控制 ...,光學臨界尺寸（OCD）和高級膜分析計量. FilmTek TM CD光學關鍵尺寸系統是SCI針對1x nm設計節點及更高級別的全自動化，高通量CD測量和高級薄膜分析的領先 ... ,下午則由陳俊賢講師為各位講述使用光學來量測半導體元件結構尺寸，以及概述如何藉由所獲得的尺寸來增進CMP的效能。課程首先會介紹光學量測(OCD Metrology) ... ,例如以此測量不穩定的液體表面和顯微成像。 目录. 1 基本原理; 2 實驗細節. ,公司提供自動測量系統，用於計量光學關鍵尺寸(OCD)量測、薄膜測量以及晶圓應力在電晶體及交互運作下的測量應用和Lynx平台，能使集群計量工廠自動化可應用於 ... , 表2顯示量測框上的傳統1D薄膜、FoG和OCD在圖案化目標上採用傳統散射測量(OCD)之間的比較。從中可以看出，FoG不僅提供測量精準度高和 ...
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本發明之實施例包括利用光學臨界尺寸(OCD)計量的待量測之結構之光學參數模型的最佳化將方法。其他實施例包括一結構之一光學模型的參數化之最佳化方法。 https://patents.google.com [確定開課]1081206-CMP 量測技術課程
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