adi aei半導體
[0001] 本发明涉及半导体制造技术，尤其涉及一种光罩的制作方法。 ... [0041] 要说明的是，以上的ADI、AEI、ASI步骤属于现有技术，是否需要进行测量、是否需要 ... ,高精度晶圓黃光制程檢測量測設備(ADI/AEI); 巨觀檢測箭影、光阻殘留、曝光異常; 超微觀檢測Cell異常; 量測CDAA、CD bar、光罩曝光偏移以及版本異常 ... ,2012年4月27日 — 與etch開會時,一但AEI的結果不好,etch的大絕招就是AEI follow ADI, 所以是photo的問題.如果photo不懂etch的recipe,很可能就會被冠上AR (action ... ,何謂AEI 答：After Etching Inspection 蝕刻後的檢查. AEI目檢Wafer須檢查哪些 ... 答：After Develop Inspection，曝光和顯影完成之後，通過ADI機臺對所產生的 ... ,Auto focus; auto stage; macro front side and back side inspection. ,半導體製程中ADI/AEI檢驗工作主要是透過顯微鏡進行，在長時間的視覺檢驗作業中，檢驗員常覺得眼睛疲勞不適。本研究主要目的在評估ADI/AEI檢視作業視覺疲勞 ... ,由 黃閔顯 著作 · 2006 · 被引用 1 次 — 一、AEI CD 變異受CD 大小與蝕刻機台穩定性影響。 二、蝕刻後CD 大小已固定，無法再做修正。 對半導體製程而言，ADI CD 的控制上，遠比AEI CD 重要，故本 ... ,... 半導體材料/零件SEMICON Parts. 最新消息 · 聯絡我們. 目前位置：首頁>產品展示>半導體設備>檢驗/量測系統>ADI/AEI 顯微鏡檢查系統. 產品展示 Products ... ,2018年4月2日 — 答：After Develop Inspection，曝光和顯影完成之後，通過ADI機台對所產生的圖形的定性檢查，看其是否正常，其 ... 50、半導體中一般金屬導線材質為何? ... AEI CD：蝕刻後特定圖形尺寸之大小,特徵尺寸（Critical Dimension）. ,等，其製造原理是在矽半導體上，做出由IC所組成之電子元 ... 處理) → Photo Process → (Relays Treatment) → Overlay Check → CD SEM 量測(ADI) →. 蝕刻：Etch. 蝕刻(Line/Hole) → 去光阻(Asher) → CD SEM 量測(AEI) → 後測QC → 後清洗→.
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等，其製造原理是在矽半導體上，做出由IC所組成之電子元 ... 處理) → Photo Process → (Relays Treatment) → Overlay Check → CD SEM 量測(ADI) →. 蝕刻：Etch. 蝕刻(Line/Hole) → 去光阻(Asher) → CD SEM 量測(AEI) → 後測QC → 後清洗→. http://ebooks.lib.ntu.edu.tw |