lam research cvd
Lam Research領先市場的ALTUS®系統結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 ,Atomic Layer Deposition (ALD) Chemical Vapor Deposition (CVD). 結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，這些領先市場的系統可為先進的鎢金屬化 ... ,結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，這些領先市場的系統可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 Advanced Memory ... ,Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) ... ,結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，這些領先市場的系統可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 Advanced Memory ... ,Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) ... ,Chemical Vapor Deposition (CVD) High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) ... ,Atomic Layer Deposition (ALD) Chemical Vapor Deposition (CVD). 結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，這些領先市場的系統可為先進的鎢金屬化 ... , 微小的鎢連接和薄阻障層(barrier)是採用精密的化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)製造，一次只添加幾層的原子。電漿輔助CVD (PECVD)、高 ...
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ALTUS系列產品- Lam Research
Lam Research領先市場的ALTUS®系統結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 https://www.lamresearch.com Chemical Vapor Deposition (CVD) - Lam Research
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結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，這些領先市場的系統可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 Advanced Memory ... https://www.lamresearch.com HDP-CVD - Lam Research
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