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KLA-Tencor's advanced patterning control systems help IC manufacturers achieve ... ATL™. Scatterometry-based overlay metrology system with unique tunable ... ,and ATL are medium performance-reactors with high OTR-efficiency with regard to the power input ... volumetric mass transfer coefficient (kLa) as well. Several ... , KLA-Tencor's five new patterning control systems for reticle and IC ... Several ATL, SpectraFilm F1 and 5D Analyzer X1 systems are in use at ..., Within the IC fab, the ATL™ (Accurate Tunable Laser) overlay metrology ... KLA-Tencor's five new patterning control systems for reticle and IC ..., 新系統拓展了KLA-Tencor的多元化量測、檢測和資料分析的系統組合，能對製程變化進行識別和糾正。該五款系統包含ATL、SpectraFilm F1、Teron ...,KLA-Tencor's comprehensive metrology portfolio includes Archer, ATL, ... ATL: Scatterometry-based overlay metrology system that supports ≤7nm design ... ,加利福尼亞州米爾皮塔斯,2017年9月11日- KLA-Tencor公司(納斯達克股票交易代碼: ... ATL 圖對量測系統採用獨特的可調雷射技術,具有1奈米分辨率,在製程發生變化 ... , ... 半導體製程商機，半導體檢測大廠美商科磊（KLA-Tencor）公司於12 日宣布， ... 科磊進一步解釋，在IC 製造廠內，科磊新推出的ATL 疊對量測系統 ..., 設備大廠美商科磊（KLA-Tencor）12日在台灣國際半導體展（SEMICON ... 科磊此次推出的5款控制系統，一是ATL疊對量測系統，採用獨特的可雷射 ..., KLA-Tencor針對7奈米以下IC的製造推出五款顯影成型控制系統，加速多重 ... 在IC製造廠內，ATL疊對量測系統和SpectraFilm F1薄膜量測系統可以 ...
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Advanced Patterning Control 2017 - KLA-Tencor
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