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KLA's comprehensive metrology portfolio includes Archer, ATL, ... The SpectraFilm™ F1 film metrology system helps achieve strict process tolerances at ... , 幫助晶片製造商實現多重曝光技術和EUV 微影所需的嚴格製程公差。在IC 製造廠內,ATE IM疊. 對量測系統和SpectraFilm F1 薄膜量測系統可以 ...,KLA 的量测系统满足了一系列芯片和基片晶圆制造应用所需，包括设计可制造性验证、新工艺表征以及批量制造工艺的监控。通过精确测量图案尺寸、薄膜厚度、层间 ... ,SpectraFilm™ F1. Films metrology system with multiple optical technologies for high precision film thickness and bandgap measurements on advanced film ... ,了解KLA先进的图形控制系统如何帮助IC制造商实现工艺容差。 , KLA-Tencor針對7奈米以下IC的製造推出五款顯影成型控制系統，加速多重 ... 在IC製造廠內，ATL疊對量測系統和SpectraFilm F1薄膜量測系統可以 ..., 新系統拓展了KLA-Tencor的多元化量測、檢測和資料分析的系統組合，能對製程變化進行識別和糾正。該五款系統包含ATL、SpectraFilm F1、Teron ..., Within the IC fab, the ATL™ (Accurate Tunable Laser) overlay metrology system and the SpectraFilm™ F1 film metrology system characterize ..., KLA-Tencor公司日前针对7纳米以下的逻辑和尖端内存设计节点推出了五款 ... 在IC制造厂内，ATL™叠对量测系统和SpectraFilm™ F1薄膜量测系统 ...
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