電 漿 參數

相關問題 & 資訊整理

電 漿 參數

由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿蝕刻製程參數中一般包括了射頻(Radio-frequency,RF)功率、操. 作壓力、氣體種類、流量、蝕刻溫度及腔體的設計等因素。而這些因素綜合的結. ,由 林兆焄 著作 · 2005 — 另一個與電漿中之離子與電子之間的吸引力相關的參數,為電漿頻率. (plasma frequency),ωp (s. -1. ),它與電子移動λD 距離的速率有關:. ,等离子体(又稱电浆),是物質狀態之一,是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。 ... 等離子體參數是一系列描述某種電漿的性質的參數。 , ,由 廖峻德 著作 · 2005 — 本子計劃主要架構一多功能微波電漿反應機台,以電漿診斷工具如靜電式探. 針以及電漿放射光譜儀進行電漿參數確認。腔体設計的主要功能在創造官能基於. 高分子吸附材表面,另 ... ,2005年6月20日 — 中文論文名稱, 製程參數與電漿表面處理對奈米碳管成長影響之研究. 英文論文名稱, Effect of Processing Parameters and Plasma Surface Treatment on ... ,由 李安平 著作 — 蝕刻技術中,正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速 ... 於電漿腔中感應產生一與RF 電流反向之電場(E),此 ... 除了透過調整最佳的電漿參數來成長利於場發射應用. ,方程式,來求得電漿腔體內流場與溫度場;並探討不同電磁強度及. 腔體尺寸下對電漿熱流場的影響。利用電腦模擬結果進行參數最佳. 化,能夠使靶材面溫度分佈均勻。 ,Feedstock gas: pressure P, flow rate & chemical 成分. ▫ Geometry: 本例簡化後,僅剩discharge length, l. ▫ 可獲得之電漿參數. ▫ Plasma density n.

相關軟體 Etcher 資訊

Etcher
Etcher 為您提供 SD 卡和 USB 驅動器的跨平台圖像刻錄機。 Etcher 是 Windows PC 的開源項目!如果您曾試圖從損壞的卡啟動,那麼您肯定知道這個沮喪,這個剝離的實用程序設計了一個簡單的用戶界面,允許快速和簡單的圖像燒錄.8997423 選擇版本:Etcher 1.2.1(32 位) Etcher 1.2.1(64 位) Etcher 軟體介紹

電 漿 參數 相關參考資料
國立交通大學機械工程研究所碩士論文 - 國立交通大學機構典藏

由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿蝕刻製程參數中一般包括了射頻(Radio-frequency,RF)功率、操. 作壓力、氣體種類、流量、蝕刻溫度及腔體的設計等因素。而這些因素綜合的結.

https://ir.nctu.edu.tw

第二章文獻回顧

由 林兆焄 著作 · 2005 — 另一個與電漿中之離子與電子之間的吸引力相關的參數,為電漿頻率. (plasma frequency),ωp (s. -1. ),它與電子移動λD 距離的速率有關:.

https://ir.nctu.edu.tw

等离子体- 维基百科,自由的百科全书

等离子体(又稱电浆),是物質狀態之一,是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。 ... 等離子體參數是一系列描述某種電漿的性質的參數。

https://zh.wikipedia.org

等離子體參數- 维基百科,自由的百科全书

https://zh.wikipedia.org

行政院國家科學委員會專題研究計畫期中進度報告 - 國立成功 ...

由 廖峻德 著作 · 2005 — 本子計劃主要架構一多功能微波電漿反應機台,以電漿診斷工具如靜電式探. 針以及電漿放射光譜儀進行電漿參數確認。腔体設計的主要功能在創造官能基於. 高分子吸附材表面,另 ...

http://ir.lib.ncku.edu.tw

製程參數與電漿表面處理對奈米碳管成長影響之研究 - 電子學位 ...

2005年6月20日 — 中文論文名稱, 製程參數與電漿表面處理對奈米碳管成長影響之研究. 英文論文名稱, Effect of Processing Parameters and Plasma Surface Treatment on ...

http://etds.lib.tku.edu.tw

電漿源原理與應用之介紹

由 李安平 著作 — 蝕刻技術中,正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速 ... 於電漿腔中感應產生一與RF 電流反向之電場(E),此 ... 除了透過調整最佳的電漿參數來成長利於場發射應用.

http://psroc.phys.ntu.edu.tw

電漿熱流分析研究 - 行政院原子能委員會

方程式,來求得電漿腔體內流場與溫度場;並探討不同電磁強度及. 腔體尺寸下對電漿熱流場的影響。利用電腦模擬結果進行參數最佳. 化,能夠使靶材面溫度分佈均勻。

https://www.aec.gov.tw

電漿製程技術 - 興大材料

Feedstock gas: pressure P, flow rate & chemical 成分. ▫ Geometry: 本例簡化後,僅剩discharge length, l. ▫ 可獲得之電漿參數. ▫ Plasma density n.

http://www.mse.nchu.edu.tw