脈衝電漿
標題: 脈衝電漿對類鑽薄膜性質影響. Influence of pulsed plasma on properties of DLC thin ... closed field unbalanced magnetron system 脈衝電源封閉式磁控系統. ,電漿放射光譜量到的OH 自由基強. 度,發現氧氣的強度最強,並且OH 自由基強度越強,其去色處理效果越佳。 關鍵詞:脈衝放電、電漿、染料、高級氧化處理程序. 1. , 不過實際上要在任意空間發光的技術是存在的,就是利用很強的脈衝雷射把空氣擊穿打成電漿,然後電漿就可以發光或散射光。這樣一來只要動態 ...,本研究成功研製出脈衝線性電感式耦合電漿源,並修改與使用脈衝電漿源的量測系統。以蘭牟爾探針量測在不同操作條件下的隨時變電漿特性參數,使用射頻阻抗計量 ... ,脈衝線性電漿 ; 電感式耦合電漿源 ; 脈衝電漿 ; pulsed linear plasma ... 蘭牟爾探針量測結果顯示,脈衝電漿密度隨與天線距離增加時會有先增後減的現象,靠近天線 ... ,脈衝表面工學則是針對現行DC及RF電漿製程在大面積、絕緣薄膜應用之缺點而發展之新領域,藉由10 -100KHZ之脈衝電源解決,傳統DC電漿沉積之target ar- cing ... ,關鍵字:高功率脈衝磁控濺射;薄膜;電漿;;;;;. 高功率脈衝電漿濺射技術(High Power Impulse Magnetron Sputtering, HIPIMS)具有高電漿密度、高靶材游離率等 ... ,電漿浸沒離子注入(PIII)或脈衝電漿摻雜(脈衝PIII)是通過應用高電壓脈衝直流或純直流電源,將電漿中的加速離子作為摻雜物注入合適的基體或置有電極的半導體 ... ,括電感式電漿源,微波表面波電漿源,大氣電漿源,電漿浸沒離子佈植及電漿火炬等等。文中將簡介各式 ... 加一負脈衝電壓於靶材上,電漿離子便從四面八方垂. 直佈植 ...
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脈衝電漿 相關參考資料
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標題: 脈衝電漿對類鑽薄膜性質影響. Influence of pulsed plasma on properties of DLC thin ... closed field unbalanced magnetron system 脈衝電源封閉式磁控系統. http://ir.lib.nchu.edu.tw 不同氣體用於水中脈衝放電對染料溶液去色處理之影響
電漿放射光譜量到的OH 自由基強. 度,發現氧氣的強度最強,並且OH 自由基強度越強,其去色處理效果越佳。 關鍵詞:脈衝放電、電漿、染料、高級氧化處理程序. 1. https://www.lhu.edu.tw 真正的3D顯示技術:脈衝雷射的電漿舞台! - PanSci 泛科學
不過實際上要在任意空間發光的技術是存在的,就是利用很強的脈衝雷射把空氣擊穿打成電漿,然後電漿就可以發光或散射光。這樣一來只要動態 ... https://pansci.asia 脈衝線性電感式耦合電漿源研製與實驗量測分析 - Airiti Library ...
本研究成功研製出脈衝線性電感式耦合電漿源,並修改與使用脈衝電漿源的量測系統。以蘭牟爾探針量測在不同操作條件下的隨時變電漿特性參數,使用射頻阻抗計量 ... http://www.airitilibrary.com 脈衝線性電感式耦合電漿源研製與實驗量測分析 - 華藝線上圖書館
脈衝線性電漿 ; 電感式耦合電漿源 ; 脈衝電漿 ; pulsed linear plasma ... 蘭牟爾探針量測結果顯示,脈衝電漿密度隨與天線距離增加時會有先增後減的現象,靠近天線 ... https://www.airitilibrary.com 脈衝表面工學
脈衝表面工學則是針對現行DC及RF電漿製程在大面積、絕緣薄膜應用之缺點而發展之新領域,藉由10 -100KHZ之脈衝電源解決,傳統DC電漿沉積之target ar- cing ... http://www.mse.nchu.edu.tw 脈衝電漿 - 政府研究資訊系統GRB
關鍵字:高功率脈衝磁控濺射;薄膜;電漿;;;;;. 高功率脈衝電漿濺射技術(High Power Impulse Magnetron Sputtering, HIPIMS)具有高電漿密度、高靶材游離率等 ... https://www.grb.gov.tw 電漿浸沒離子注入- 維基百科,自由的百科全書 - Wikipedia
電漿浸沒離子注入(PIII)或脈衝電漿摻雜(脈衝PIII)是通過應用高電壓脈衝直流或純直流電源,將電漿中的加速離子作為摻雜物注入合適的基體或置有電極的半導體 ... https://zh.wikipedia.org 電漿源原理與應用之介紹
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