晶圓缺陷檢測

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晶圓缺陷檢測

该晶圆缺陷的检测方法包括如下步骤:选定检测区域,该检测区域是以晶圆中心为圆心,半径是晶圆半径十分之一至五分之一的圆形区域;在该检测区域内选取若干个呈 ... , KLA-Tencor公司推出Voyager 1015與Surfscan SP7兩款全新缺陷檢測產品,在矽晶圓和晶片製造領域中針對尖端邏輯和記憶體節點,為設備和製程 ..., 美商科磊(KLA-Tencor)宣布推出兩款全新缺陷檢測產品,在矽晶圓和晶片製造領域中針對尖端邏輯和記憶體節點,為設備和製程監控解決兩個關鍵 ...,美國Nanotronics公司,推出全新的nSPEC系統,依託高品質半導體工業專用顯微鏡,配備高精密移動樣品台,高倍率長距離明暗場聚焦物鏡系統,輔以高清晰CCD模組, ... ,缺陷檢測是一個品管很重要的過程,傳統的晶粒表面缺陷檢測通常是目視檢測, ...... 本論文藉由機器視覺之技術,針對每片晶圓中的晶粒進行缺陷檢測。因此本. ,半導體製程設備供應商應用材料宣佈推出晶圓缺陷檢測系統UVision,該系統是半導體業第一台雷射3D明視野(brightfield)檢測系統,主要針對65奈米或更先進的製程 ... , KLA-Tencor推出兩款全新缺陷檢測產品,在矽晶圓和晶片製造領域中針對尖端邏輯和記憶體節點,為設備和製程監控解決兩個關鍵挑戰。 Voyager ...,SONIX™ 為了100mm 到300mm 尺寸的晶圓提供了廣泛分析功能的晶圓級和設備級、手動與自動晶圓檢測及量測系統。 , Allied Vision 的短波红外(SWIR) 相机应用于红外显微成像,可检测 ... 它由高纯度、几乎无缺陷的单晶硅棒经过切片制成,用作制造晶圆内和晶圆 ...,晶圓製造商需要能夠檢測及準確識別這些缺陷,並且將. 它們與大型微粒的背景缺陷群作區分(後者缺陷可以透. 過清潔或重製晶圓的方式解決),同時避免不必要的晶.

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CN101378024A - 晶圆缺陷的检测方法- Google Patents

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https://www.google.com

KLA-Tencor推出兩款缺陷檢測產品 - Digitimes

KLA-Tencor公司推出Voyager 1015與Surfscan SP7兩款全新缺陷檢測產品,在矽晶圓和晶片製造領域中針對尖端邏輯和記憶體節點,為設備和製程 ...

https://www.digitimes.com.tw

KLA-Tencor新款缺陷檢測系統改善製程設備監控挑戰- 產業動態- 新電子 ...

美商科磊(KLA-Tencor)宣布推出兩款全新缺陷檢測產品,在矽晶圓和晶片製造領域中針對尖端邏輯和記憶體節點,為設備和製程監控解決兩個關鍵 ...

https://www.mem.com.tw

全自動晶圓表面缺陷檢測系統--Quatek

美國Nanotronics公司,推出全新的nSPEC系統,依託高品質半導體工業專用顯微鏡,配備高精密移動樣品台,高倍率長距離明暗場聚焦物鏡系統,輔以高清晰CCD模組, ...

http://www.quatek.com.tw

國立交通大學工業工程與管理學系碩士班碩士論文 - 國立交通大學機構典藏

缺陷檢測是一個品管很重要的過程,傳統的晶粒表面缺陷檢測通常是目視檢測, ...... 本論文藉由機器視覺之技術,針對每片晶圓中的晶粒進行缺陷檢測。因此本.

https://ir.nctu.edu.tw

應材推出新款晶圓缺陷檢測系統 - CTimes

半導體製程設備供應商應用材料宣佈推出晶圓缺陷檢測系統UVision,該系統是半導體業第一台雷射3D明視野(brightfield)檢測系統,主要針對65奈米或更先進的製程 ...

https://www.ctimes.com.tw

新缺陷檢測系統解決製程和設備監控中關鍵挑戰- EDN Taiwan

KLA-Tencor推出兩款全新缺陷檢測產品,在矽晶圓和晶片製造領域中針對尖端邏輯和記憶體節點,為設備和製程監控解決兩個關鍵挑戰。 Voyager ...

https://www.edntaiwan.com

晶圓缺陷檢測| 聲波掃描顯微鏡| Sonix™ - 音波掃描顯微鏡| Sonix

SONIX™ 為了100mm 到300mm 尺寸的晶圓提供了廣泛分析功能的晶圓級和設備級、手動與自動晶圓檢測及量測系統。

http://tw.sonix.com

硅晶圆缺陷检测 - Allied Vision

Allied Vision 的短波红外(SWIR) 相机应用于红外显微成像,可检测 ... 它由高纯度、几乎无缺陷的单晶硅棒经过切片制成,用作制造晶圆内和晶圆 ...

https://www.alliedvision.com

識別拋光矽晶圓上大型、影響良率的缺陷的新方法 - YMS Magazine

晶圓製造商需要能夠檢測及準確識別這些缺陷,並且將. 它們與大型微粒的背景缺陷群作區分(後者缺陷可以透. 過清潔或重製晶圓的方式解決),同時避免不必要的晶.

https://www.ymsmagazine.com