光 罩 對 準
光罩是微影製程的關鍵，畫錯光罩、對準圖案設計位置錯誤、圖案超出曝光區、送光罩要排隊等問題時有所聞，對於光罩設計不熟悉的使用者，本中心可代為進行光 ... ,4.功能:光罩對準及曝光. 5.重要規格: (1).適用光罩尺寸: 5”. (2).適用晶片尺寸: 4”. (3).曝光源型號ML-251A/B (by USHIO)，250W超高壓水銀燈，主波長365nm. (4). ,儀器名稱：光罩對準機Mask Aligner 用途：光罩對準、曝光 廠牌與型號：OAI (J500) 重要規格： (1)光罩的最大尺寸: 7” x7” (2)光罩鉗制的方式: 真空式與機械夾持式 ... ,本研究以XYθ 三軸精密進給系統為架構，搭配儀控平台電控技術、整機系統整合技術、影像對位與光罩. 對準技術，並結合PC-based 控制器發展多軸人機界面、多 ... ,紫外光曝光機用於光蝕刻製程中之光罩圖形轉移(最小線寬可達2微米) 。OAI 500-IR所採用的對準方式為接觸式(contact)，也就是光罩與晶圓上的光阻直接接觸， ... , ,Lithography. 對準光罩（Mask Align）及曝光（Exposure）. 曝光模式. 接觸式(Contact). 近接式(Proximity). 投影式(Projection). 共同貴重儀器中心. 10 ... ,預約取消：因突發狀況，導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者，應以預約24小時之前取消預約登記，未取消者按原來時段計算收費，原時段得由儀器設備管理 ... ,光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移 ... -19-. 光罩對準( II ). 光罩. 上視顯微鏡. 矽晶片. 對準記號. 以可見光做單面對準. 光阻 ...
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【NEW】微奈米製程的第一站：光罩設計 - 微奈米科技研究中心
光罩是微影製程的關鍵，畫錯光罩、對準圖案設計位置錯誤、圖案超出曝光區、送光罩要排隊等問題時有所聞，對於光罩設計不熟悉的使用者，本中心可代為進行光 ... http://cmnst.ncku.edu.tw 光罩對準曝光機(Mask Aligner) – 交通大學奈米中心
4.功能:光罩對準及曝光. 5.重要規格: (1).適用光罩尺寸: 5”. (2).適用晶片尺寸: 4”. (3).曝光源型號ML-251A/B (by USHIO)，250W超高壓水銀燈，主波長365nm. (4). https://nanofc.web.nctu.edu.tw 光罩對準機Mask Aligner - 國立中山大學光電工程學系
儀器名稱：光罩對準機Mask Aligner 用途：光罩對準、曝光 廠牌與型號：OAI (J500) 重要規格： (1)光罩的最大尺寸: 7” x7” (2)光罩鉗制的方式: 真空式與機械夾持式 ... https://dop.nsysu.edu.tw 具光罩對準之高剛性XYθ 三軸雷射直寫影像進給系統 ... - 儀科中心
本研究以XYθ 三軸精密進給系統為架構，搭配儀控平台電控技術、整機系統整合技術、影像對位與光罩. 對準技術，並結合PC-based 控制器發展多軸人機界面、多 ... https://www.tiri.narl.org.tw 單面光罩對準機— 國立成功大學 - Research NCKU
紫外光曝光機用於光蝕刻製程中之光罩圖形轉移(最小線寬可達2微米) 。OAI 500-IR所採用的對準方式為接觸式(contact)，也就是光罩與晶圓上的光阻直接接觸， ... https://researchoutput.ncku.ed 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏
https://ir.nctu.edu.tw 雙面光罩對準曝光儀
Lithography. 對準光罩（Mask Align）及曝光（Exposure）. 曝光模式. 接觸式(Contact). 近接式(Proximity). 投影式(Projection). 共同貴重儀器中心. 10 ... https://www.pisc.fcu.edu.tw 雙面光罩對準曝光機(A) (Double Side Mask Aligner (A)) – 交通 ...
預約取消：因突發狀況，導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者，應以預約24小時之前取消預約登記，未取消者按原來時段計算收費，原時段得由儀器設備管理 ... https://nanofc.web.nctu.edu.tw 黃光微影製程技術 - 微奈米光機電系統實驗室
光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移 ... -19-. 光罩對準( II ). 光罩. 上視顯微鏡. 矽晶片. 對準記號. 以可見光做單面對準. 光阻 ... http://mems.mt.ntnu.edu.tw |