wpe effect
effect” (WPE). As advanced deep well implants with high- energy implanters are introduced to suppress parasitic bipolar gain for latch-up protection, WPE ... , 在先進的CMOS製程裡,LOD (Length of Diffusion) Effect將會是影響類比電路的一個重要參數。 剛好最近讀了 ... 延伸閱讀2:Well Proximity Effect, 談完LOD Effect,就不得不再談談WPE。 在先進半導體製程中,除了LOD (Length of Diffusion) Effect外,另一個常被提到的問題就是Well Proximity ..., 談完LOD Effect,就不得不再談談WPE。在先進半導體製程中,除了LOD (Length of Diffusion) Effect外,另ㄧ個常被提到的問題就是Well Proximity ..., WPE:Well proximity effect. STI Effect:LOD length of diffusion}. 就是STI槽中填充的隔离介质会产生机械应力,挤压比邻的MOS,使电参数发生和 ...,This well proximity effect (WPE) is caused by the well implant atoms that scatter laterally from the photoresist mask. From first principles of this scattering effect ... ,本文重點介紹制程帶來的兩個重要效應:WPE、STI。 ... 種不均勻造成MOS管閾值電壓Vth、體效應參數gamma、 遷移率u等的改變,這就是WPE(Well Proximity Effect). , WPE, 也即Well Proximity Effect, 其原理可以参见下图: 集成电路制造过程中, 在对阱作离子注入时,注入的离子与阱区周围的光刻胶发生溅射而富集在 ..., WPE, 也即Well Proximity Effect, 其原理可以參見下圖: 集成電路製造過程中, 在對阱作離子注入時,注入的離子與阱區周圍的光刻膠發生濺射而富集 ...
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