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sputter機台

機台簡介. ○ 1.儀器名稱. 中文名稱：磁控濺鍍設備. 英文名稱：Multi-Cathode RF Magnetron. Sputter Deposition System. 英文簡稱：Sputter II. ○ 2.廠牌型號. ,談到濺鍍（Sputtering Deposition），就一定要對. ... 本中心「奈米表面與磊晶技術」團隊所擁有的濺鍍式重點機台「共濺鍍薄膜沉積系統」，如圖一，即使用輝光放電濺鍍法 ... ,此為儀器負責人，須進行機台maintain。 3. 成為本儀器檢定員以協助進行使用者資格考核。 B 級使用者. 1. 包含C、T 級使用者之權利義務。 2. 向儀器負責人申請更動 ... ,機台名稱多功能真空濺鍍系統. 型號. ULVAC SPUTTER SBH-3308RDE. 放置地點新廠3F 10K 級無塵室. 機台規格. 濺鍍源. 種類. 直流(DC). 最小功率. 約100 W. ,本實驗室所屬濺鍍機經考核均可開放非假日白天自行操作。 2. 假日及晚上不開放機台操作。 3. 取消預約須於 1 天前取消，違者使用費照預約時間全額收費。 4. ,濺鍍機,SPUTTER,COATING. ... 高真空濺鍍機SP-HC1500. 一、設備組成：. 1. 本設備為單 ... 安裝機台組件：用優質鋼型材焊接而成，快卸圍板表面噴塑處理。 10、相關 ... ,SPUTTER A 簡易操作規範. 108/10/25 修訂. 第一階段. 準備事項. 1. ... 並確認機台目前標示為運轉正常，前一位使用者已結束操作。 3. 刷卡、將指示牌換至「使用中」。 ,離子濺鍍沉積薄膜: 機台: CVC sputter systems 製程:TaN 、TiW、Ta2O5、Ta、NiCr ‧Substrate size: 6". ‧Pre-sputter of RF back etching capability. ‧Reactive sputter ...

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sputter機台相關參考資料

Sputter - 中興電機 - 國立中興大學

機台簡介. ○ 1.儀器名稱. 中文名稱：磁控濺鍍設備. 英文名稱：Multi-Cathode RF Magnetron. Sputter Deposition System. 英文簡稱：Sputter II. ○ 2.廠牌型號.

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共濺鍍薄膜沉積系統Co-Sputtering Deposition System

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國立中央大學光電中心Sputter 真空離子濺鍍機使用規範

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濺鍍機(Sputter)

本實驗室所屬濺鍍機經考核均可開放非假日白天自行操作。 2. 假日及晚上不開放機台操作。 3. 取消預約須於 1 天前取消，違者使用費照預約時間全額收費。 4.

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濺鍍機,SPUTTERING

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真空濺鍍系統

SPUTTER A 簡易操作規範. 108/10/25 修訂. 第一階段. 準備事項. 1. ... 並確認機台目前標示為運轉正常，前一位使用者已結束操作。 3. 刷卡、將指示牌換至「使用中」。

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薄膜製程技術 - 弗侖斯系統股份有限公司

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