euv光罩檢測
Aera4 系統配備了新的微影級鏡頭，在標準的高解析度應用和空間檢測中展現更佳訊噪比，因而成為1x 奈米技術節點以及早期生產中的EUV 光罩檢測的首選工具。 ,亮紫科技以高次諧波產生及受專利保護的超連續譜展開技術為核心，針對半導體先進製程的光罩檢測需求，提供半導體設備商13.5nm EUV 雷射，發展先進製程光罩 ... ,2020年6月9日 — Lasertec雖然看上去是沒什麼名氣的「小公司」，但卻是世界上唯一一家為極紫外光刻（EUV光刻）製造測試設備的公司。 光刻是半導體晶片製作IC ... ,2017年7月31日 — 為了因應微細化的半導體電路圖案轉寫至矽基板上，開發使用短波長EUV光源的技術。目前的尖端技術可做出寬度小於10奈米的電路，EUV曝光用 ... ,2020年6月3日 — 2017年時，Lasertec設計了一台可以檢測空白EUV光罩內部缺陷的機器，2019年9月則是開發出了可以檢測已印有晶片設計模組的機器。 三星和 ... ,2019年7月18日 — 對於晶圓廠，EUV微影技術需要更加全面的光罩複檢方法──將標準光罩檢測與曝印晶圓檢查相結合，以確保識別所有良率關鍵的光罩缺陷。 ,2018年6月13日 — 之後針對EUV. 光罩基底片(Mask Blank) 製備過程之檢測技術做較深入之探討，並提出未來技術之發展方向。 Abstract：This article introduces the ... ,2018年6月13日 — 之後針對EUV. 光罩基底片(Mask Blank) 製備過程之檢測技術做較深入之探討，並提出未來技術之發展方向。 Abstract：This article introduces the ... ,主要實驗技術：EUV 光學檢測與釋氣分析. │概要│ ... EUV 光學檢測與光釋氣研究均需要較強的光源，因此 ... 向演算方法，快速檢測EUV 光罩存在的缺陷，以提高. ,2020年9月11日 — Lasertec在EUV曝光機發展的早期便投入於EUV光罩檢測技術的研究，在EUV曝光技術日趨成熟時給予公司帶來飛躍性的成長。但，以專利佈局的 ...
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Aera4™ 光罩檢測| Applied Materials
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2019年7月18日 — 對於晶圓廠，EUV微影技術需要更加全面的光罩複檢方法──將標準光罩檢測與曝印晶圓檢查相結合，以確保識別所有良率關鍵的光罩缺陷。 https://www.eettaiwan.com 極紫外光微影光罩檢測技術 - 工業技術研究院
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