ecr鍍膜
如图4.9所示，离子枪的气体离子照射到靶材上溅射。镀膜室内无需发生放电，因此能在高真空中镀膜。且膜质高，是可靠的镀膜方法。 ECR溅射(ECR Sputtering) ,Welcome to the 13th New Diamond and Nano Carbon Conference (NDNC 2019) which will be held at the scenic east coast of Taiwan from May 12-17, 2019. ,大葉大學鍍膜研發基地(Coating Laboratory)集結校內具有薄膜沉積技術相關專長之教師 ... 感應耦合式電漿化學氣相沉積系統，電子迴旋共振(ECR)電漿為微波電漿的 ... ,新一代微波電漿源則採同軸電子迴旋（electron cyclotron resonance，ECR）設計，並搭配solid-state 微波電源，可省卻掉傳統的磁控管及導波管，因此在硬體的架構更 ... ,Sariem Aura-wave、Hi-Wave 微波電漿源可提供高電漿密度，電漿源可排列為陣列，且陣列上的每個ECR電漿源可獨立控制其功率，讓大面積的基板表面電漿改質 ... ,ECR离子源微波能量通过微波输入窗(由陶瓷或石英制成) 经波导或天线耦合进入放电室, 在窗上表面的永磁系统 ... 真空镀膜 卢景景 合肥工业大学机械与汽车工程学院. ,鍍膜技術基本上可分為液體及氣體成膜兩種方法，前者大 .... 鍍膜(兼具有抗反射、防止電波輻射及靜電). 等。 ..... 繞共振式(Electron Cyclotron Resonance, ECR)兩種。 , 圖十一：典型ECR系統(a)系統結構(b)軸向磁場變化，顯示有一或多個共振區，視磁場數目而定。HeliconHelicon反應器係利用天線配合磁場 ...,到蝕刻、濺鍍及輔助化學氣相沉積鍍膜作說明，最後對目前盛行的高密度電漿源 .... 的效率提高，現在正熱門的高密度電漿，如Helicon、ECR 即採此原理，在高真. ,真空鍍膜設備, 電漿系統, 真空設備. ... Sariem Aura-wave、Hi-Wave 微波電漿源可提供高電漿密度，電漿源可排列為陣列，且陣列上的每個ECR電漿源可獨立控制其 ...
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