ADI AEI

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ADI AEI 相關參考資料
CN101430566A - 控制蚀刻偏差的方法- Google Patents

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IC 製程簡介

Etching bias=AEI-ADI. 5. Profile. 6. Micro-loading effect : 對不同的pattern density有不同ER & profile. 7. Aspect ratio(AR) = h/d. 8. RIE lag: ER reduce when AR ...

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Photomask ADI, AEI, and QA measurements using normal ...

Photomask ADI, AEI, and QA measurements using normal incidence optical-CD metrology. Author(s): Ebru Apak; T. P. Sarathy; William A. McGahan; Pablo I.

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[心得] 半導體黃光製程工作內容分享-4 - 精華區Tech_Job - 批踢 ...

與etch開會時,一但AEI的結果不好,etch的大絕招就是AEI follow ADI, 所以是photo的問題.如果photo不懂etch的recipe,很可能就會被冠上AR (action ...

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半導體中ADI CD是什麼的縮寫| Yahoo奇摩知識+

ADI用語是在於半導體微影製程中,A 代表AFTER ,D 代表DEVEROPER (加ed),I 代表INSPECTION ,其實還有AEI,其中E代表ETCHER(ed)。

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博碩士論文行動網 - 全國博碩士論文資訊網

半導體製程中ADI/AEI檢驗工作主要是透過顯微鏡進行,在長時間的視覺檢驗作業中,檢驗員常覺得眼睛疲勞不適。本研究主要目的在評估ADI/AEI檢視作業視覺疲勞的 ...

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國立交通大學機構典藏- 交通大學

一、AEI CD 變異受CD 大小與蝕刻機台穩定性影響。 二、蝕刻後CD 大小已固定,無法再做修正。 對半導體製程而言,ADI CD 的控制上,遠比AEI CD 重要,故本研究.

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达裕科技股份有限公司产品展示-ADIAEI 显微镜检查系统

ADI/AEI 显微镜检查系统. Microscope System: a. Nikon b. Olympus c. Leica. d. Navitar. 达裕科技股份有限公司i-Bot Technology Inc. 台湾总公司:新竹县竹北市成功 ...

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達裕科技股份有限公司產品展示-ADIAEI 顯微鏡檢查系統

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關於黃光及其100個疑問,這篇文章已全面解答- 每日頭條

答:After Develop Inspection,曝光和顯影完成之後,通過ADI機台對所產生的 ... AEI CD:蝕刻後特定圖形尺寸之大小,特徵尺寸(Critical Dimension).

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