電漿蝕刻英文
漿下的薄膜，反應成具揮發性的生成物，而後被真空系統. 抽離，來進行蝕刻。 ◇反應性離子蝕刻法（Reactive Ion Etch，RIE），介於濺擊. 蝕刻與電漿蝕刻間的乾式蝕刻 ... ,在處理圖案化蝕刻時，電漿蝕刻逐漸取代濕式蝕刻. 濕式蝕刻. ▫. 化學溶液溶解晶圓表面上的物質. ▫. 副產物為氣體、液體或可溶於蝕刻劑的固體. ▫. 三基本步驟：蝕刻、 ... ,電漿. 射頻功率. 暗區. 或. 鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. Photo Courtesy: UT Dallas ... 電漿蝕刻. ▫ CF. 4. 氣體在電漿中分解，產生氟自由基以進. 行氧蝕刻製程. ,論文名稱(英文), Parametric Study and Spectral Analysis of SF6 Plasma for SiNx ... 中文摘要, 本研究探討SF6電漿蝕刻SiNx製程，包括改變電漿功率、SF6/He的氣體 ... ,變壓耦合式電漿製程設備之蝕刻率批片控制. Wafer to wafer control of etching rate in Transformer. Coupled Plasma Processing Equipment. 研究生：廖木生. ,中文名稱. 多腔體電漿蝕刻系統. 英文名稱. Multi-chamber Plasma Etching System(P5000E). 儀器廠牌型號. Applied Materials / Precision 5000. 購置年限. 1990年製. ,電漿蝕刻是將電磁能量[通常為射頻(RF)] 運用在含有化學反應成分(如氟或氯) 的氣體中進行。電漿會釋放帶正電的離子並撞擊晶圓以移除(蝕刻) 材料，並和活性自由基 ... , 在濕蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的，而乾蝕刻通常是一種電漿蝕刻(plasma etching)，電漿蝕刻中的蝕刻作用，可能是電漿 ...,電漿與蝕刻. 雖然宇宙空間充滿電漿( 圖1)[1]，而且在現代工業生. 產中也漸漸地廣泛應用，但大多數人對「電漿」可能顯. 得比較生疏，或許還有幾分神秘，這主要是因為 ... ,FLEX系列產品. Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch. Lam Research的介電層蝕刻系統具備應用 ...
| 相關軟體 Etcher 資訊 | |
|---|---|
 電漿蝕刻英文 相關參考資料
Chap9 蝕刻(Etching)
漿下的薄膜，反應成具揮發性的生成物，而後被真空系統. 抽離，來進行蝕刻。 ◇反應性離子蝕刻法（Reactive Ion Etch，RIE），介於濺擊. 蝕刻與電漿蝕刻間的乾式蝕刻 ... http://waoffice.ee.kuas.edu.tw Etching
在處理圖案化蝕刻時，電漿蝕刻逐漸取代濕式蝕刻. 濕式蝕刻. ▫. 化學溶液溶解晶圓表面上的物質. ▫. 副產物為氣體、液體或可溶於蝕刻劑的固體. ▫. 三基本步驟：蝕刻、 ... http://homepage.ntu.edu.tw Plasma
電漿. 射頻功率. 暗區. 或. 鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. Photo Courtesy: UT Dallas ... 電漿蝕刻. ▫ CF. 4. 氣體在電漿中分解，產生氟自由基以進. 行氧蝕刻製程. http://homepage.ntu.edu.tw 六氟化硫電漿對氮化矽蝕刻之參數優化研究及光譜分析
論文名稱(英文), Parametric Study and Spectral Analysis of SF6 Plasma for SiNx ... 中文摘要, 本研究探討SF6電漿蝕刻SiNx製程，包括改變電漿功率、SF6/He的氣體 ... https://ethesis.lib.cycu.edu.t 國立交通大學機械工程研究所碩士論文 - 國立交通大學機構典藏
變壓耦合式電漿製程設備之蝕刻率批片控制. Wafer to wafer control of etching rate in Transformer. Coupled Plasma Processing Equipment. 研究生：廖木生. https://ir.nctu.edu.tw 多腔體電漿蝕刻系統 - NFC奈米中心 - 交通大學
中文名稱. 多腔體電漿蝕刻系統. 英文名稱. Multi-chamber Plasma Etching System(P5000E). 儀器廠牌型號. Applied Materials / Precision 5000. 購置年限. 1990年製. http://www.nfc.nctu.edu.tw 蝕刻| Applied Materials
電漿蝕刻是將電磁能量[通常為射頻(RF)] 運用在含有化學反應成分(如氟或氯) 的氣體中進行。電漿會釋放帶正電的離子並撞擊晶圓以移除(蝕刻) 材料，並和活性自由基 ... http://www.appliedmaterials.co 蝕刻技術(Etching Technology)www.tool-tool.com - Le blog de ...
在濕蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的，而乾蝕刻通常是一種電漿蝕刻(plasma etching)，電漿蝕刻中的蝕刻作用，可能是電漿 ... http://beeway.over-blog.com 電漿與蝕刻
電漿與蝕刻. 雖然宇宙空間充滿電漿( 圖1)[1]，而且在現代工業生. 產中也漸漸地廣泛應用，但大多數人對「電漿」可能顯. 得比較生疏，或許還有幾分神秘，這主要是因為 ... http://www.ndl.org.tw 電漿蝕刻 - Lam Research
FLEX系列產品. Atomic Layer Etch (ALE) Reactive Ion Etch. Lam Research的介電層蝕刻系統具備應用 ... https://www.lamresearch.com |