電漿氣體
電荷的離子氣體. •. 電漿是由 ... 需要外界的能量- 射頻（RF）電漿源是半導. 體製程中最 ... 電漿蝕刻. ▫ CF. 4. 氣體在電漿中分解，產生氟自由基以進. 行氧蝕刻製程. ,Langmuir將此一低壓放電所形成之電離氣體(ionized gas)稱之為電漿。目前電漿已被廣泛地定義為由負電離子或電子、正電離子、及中性粒子（原子或分子）所 ... ,由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿蝕刻製程參數中一般包括了射頻(Radio-frequency，RF)功率、操. 作壓力、氣體種類、流量、蝕刻溫度及腔體的設計等因素。而這些因素綜合的結. 果將直接或 ... ,電漿（又稱做等離子體），它是在固態、液態和氣態以外的第四大物質狀態，其特性與前三者完全不相同。氣體在高溫或強電磁場下，會變為電漿。電漿為一種帶有等 ... ,由 林兆焄 著作 · 2005 — Table 2-1所示為氣. 體壓力與平均自由徑及碰撞速率之關係，壓力降低可使平均自由徑增加. 及碰撞速率減少。因此，一般電漿是在高電壓和低氣體壓力的環境下操. 作 ... ,平行板電漿系統. 電漿. 射頻功率. 暗區. 或. 鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. 4. 離子化 e＊ + A. A+ + 2 e. • 離子化碰撞產生電子和離子. • 它維持穩定電漿. • 在氣體中隨時 ... ,等离子体（又稱电浆），是物質狀態之一，是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。等離子體和氣體一樣，形狀和體積不固定，會依着容器而改變 ... ,2019年4月30日 — 當一團氣體原子（好多好多個原子）同時被解離成一團氣體離子與電子（好多好多個離子與電子）的時候，這一團氣體離子與電子就稱為「電漿（ ... ,由 李安平 著作 — 電漿已廣泛應用於各種領域，如在半導體積體電 ... 蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速 ... Catalytic CVD 主要是利用含碳的氣體在催化金屬表. ,最常見的電漿燈為球形或者圓柱形。雖然種類繁多，但通常是一個清透的玻璃球，充以各種氣體的混合物——最常用的為氦氣和氖 ...
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 電漿氣體 相關參考資料
Plasma
電荷的離子氣體. •. 電漿是由 ... 需要外界的能量- 射頻（RF）電漿源是半導. 體製程中最 ... 電漿蝕刻. ▫ CF. 4. 氣體在電漿中分解，產生氟自由基以進. 行氧蝕刻製程. http://homepage.ntu.edu.tw plasma - 電漿 - 國家教育研究院雙語詞彙
Langmuir將此一低壓放電所形成之電離氣體(ionized gas)稱之為電漿。目前電漿已被廣泛地定義為由負電離子或電子、正電離子、及中性粒子（原子或分子）所 ... https://terms.naer.edu.tw 國立交通大學機械工程研究所碩士論文 - 國立交通大學機構典藏
由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿蝕刻製程參數中一般包括了射頻(Radio-frequency，RF)功率、操. 作壓力、氣體種類、流量、蝕刻溫度及腔體的設計等因素。而這些因素綜合的結. 果將直接或 ... https://ir.nctu.edu.tw 奇妙的電漿與電漿的應用| 國家實驗研究院
電漿（又稱做等離子體），它是在固態、液態和氣態以外的第四大物質狀態，其特性與前三者完全不相同。氣體在高溫或強電磁場下，會變為電漿。電漿為一種帶有等 ... https://www.narlabs.org.tw 第二章文獻回顧
由 林兆焄 著作 · 2005 — Table 2-1所示為氣. 體壓力與平均自由徑及碰撞速率之關係，壓力降低可使平均自由徑增加. 及碰撞速率減少。因此，一般電漿是在高電壓和低氣體壓力的環境下操. 作 ... https://ir.nctu.edu.tw 第五章電漿基礎原理
平行板電漿系統. 電漿. 射頻功率. 暗區. 或. 鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. 4. 離子化 e＊ + A. A+ + 2 e. • 離子化碰撞產生電子和離子. • 它維持穩定電漿. • 在氣體中隨時 ... http://homepage.ntu.edu.tw 等离子体- 维基百科，自由的百科全书
等离子体（又稱电浆），是物質狀態之一，是物質的高能狀態。其物理性質與固態、液態和氣態不同。等離子體和氣體一樣，形狀和體積不固定，會依着容器而改變 ... https://zh.wikipedia.org 離子與電漿（Ion and plasma）的產生與應用- StockFeel 股感
2019年4月30日 — 當一團氣體原子（好多好多個原子）同時被解離成一團氣體離子與電子（好多好多個離子與電子）的時候，這一團氣體離子與電子就稱為「電漿（ ... https://www.stockfeel.com.tw 電漿源原理與應用之介紹
由 李安平 著作 — 電漿已廣泛應用於各種領域，如在半導體積體電 ... 蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速 ... Catalytic CVD 主要是利用含碳的氣體在催化金屬表. http://psroc.phys.ntu.edu.tw 電漿燈- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
最常見的電漿燈為球形或者圓柱形。雖然種類繁多，但通常是一個清透的玻璃球，充以各種氣體的混合物——最常用的為氦氣和氖 ... https://zh.wikipedia.org |