酸 蝕刻 鹼 蝕刻
沒有這個頁面的資訊。瞭解原因 ,而矽基板的. 表面粗糙化最常用的是酸蝕刻(如: H2SO4, HNO3:H2O)或鹼金屬(如: NaOH,. KOH)來形成金字塔的形狀以增加光路徑及二次反射的機會。而本文要使用. 的 ... ,整體多晶酸蝕刻效率為12.61%，鹼蝕刻效率為11.038％，其改善整體效率往上提升1.572％。 在第二道蝕刻實驗中，將其酸蝕刻配方中的氫氟酸比例增加(7、15、36)後 ... ,於矽晶片上產生非等向性蝕刻，以製作金字塔抗反射結構。由於，. 反應進行時會 ... 提及加入其它酸鹼溶液，以增加蝕刻速率或非等向性對比度，但是. 如此亦會讓成本 ... ,由於單晶矽的結晶方式為鑽石立方結構，所以對某些特定的蝕刻液，如 ... 金屬(Alkali metal)之強鹼蝕刻液，其金屬雜質會破壞CMOS 的氧化層電性，所. 以不相容於IC ... 發生化學反應生成矽鋁酸鹽，矽鋁酸鹽對蝕刻液有較好的抵抗能力，可以保護. , 另外一般濕式製程中的蝕刻及清洗則使用大量的酸鹼溶液，基本上有氫氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、硫酸(H2SO4)、磷酸(H3PO4)、鹽酸(HCIl及氨(NH3) ...,論文中文摘要：, 本論文乃研究結晶矽太陽電池之蝕刻技術。逆金字塔結構為相當好之光封存結構，一般業界常將p 型晶格排列(100)之矽晶片，利用KOH鹼蝕刻之異向 ... ,鹼性蝕刻，也叫氯化氨銅蝕刻系統，通常使用於雙面板蝕刻、多層板. 圖形電鍍製作法 ... 剝膜液為鹼性，因此水洗的徹底與否，非常重要，內層之剝膜後有加酸. 洗中和， ...
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[PDF] Chapter 9 蝕刻 - 義守大學
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鹼性蝕刻，也叫氯化氨銅蝕刻系統，通常使用於雙面板蝕刻、多層板. 圖形電鍍製作法 ... 剝膜液為鹼性，因此水洗的徹底與否，非常重要，內層之剝膜後有加酸. 洗中和， ... http://m.wdfxw.net |