近接式曝光
這種新式微環狀結構是以近接式曝光法製作而成。我們在平坦的戴玻片上做微透鏡結構即為本製程之光罩。微透鏡結構陣列是以高溫熱熔法製備而成,光罩製程的 ... ,近接式曝光方式是指晶圓與光罩間沒有直接接. 觸,而是留有一個約數十微米的間隙,這樣的好處是光. 罩不易受損或沾黏光阻,使得光罩壽命增加及減少製程. 缺陷的 ... ,曝光技術. ◇曝光分類—接觸式、近接式、投影式. ◇優點:以接觸式方式這種曝光機對晶片執行曝光時,光罩. 上與晶片的表面是互相接觸的,因此曝光後,晶片上 ... ,四、曝光:此步驟是整個微影製程的關鍵,其方式可分為接觸式(Contact)、近接式(Proximity). 與投影式(Project),而投影式曝光可分為等比投影(1:1) ... ,中文摘要: 本研究使用立體光罩(3D-mask)與近接式曝光(proximity exposure)製作圓錐型微探針陣列(micro-probe array)模. 仁。根據熱熔法(thermal reflow)的 ... ,近接式曝光. 基本上與接觸式曝光法原理相同,晶圓上的圖形和光罩上的圖形比為1:1,只是此時光罩並不和晶圓直接接觸,免除了接觸式曝光法的缺點,但是這樣的 ... ,二、近接曝光之特色. 現今微影系統主要是在光阻表面上創造出投射. 影像,一般晶圓光學曝光轉印方式有三種,分別為. 接觸式轉印(contact printing)、近接式轉印和 ... ,近接式(proximity printing). 投影式(projection printing). 重覆步進式對準(step and repeat). 相位轉移光罩 ... 電子束曝光系統的優點就是可以直接生產所需的圖.
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中文摘要: 本研究使用立體光罩(3D-mask)與近接式曝光(proximity exposure)製作圓錐型微探針陣列(micro-probe array)模. 仁。根據熱熔法(thermal reflow)的 ... http://ir.lib.ntust.edu.tw 近接式
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