微波電漿源
微波電漿是材料薄膜沉積、微細加工和材料表面改質的一種重要工具。由於這種電漿可得到高離子密度及解離度，其化學反應活性強、製程再現性良好，所需反應溫度較 ... ,Sariem Aura-wave、Hi-Wave 微波電漿源可提供高電漿密度，電漿源可排列為陣列，且陣列上的每個ECR電漿源可獨立控制其功率，讓大面積的基板表面電漿改質 ... ,俊尚科技提供您德國CCR Technology 的COPRA 電漿源，其特色如下：. 能產生極大之離子電流密度; 離子能量（Ion Energy） 可獨立控制，不因RF電源的輸出大小而 ... ,SEM下矽晶圓上以CYRANNUS系統沈積的鑽石薄膜（左圖） 德國iPLAS 的CYRANNUS 微波電漿系統採用新一代電子迴轉共振微波電漿源（ECR Plasma Source）， ... ,一般微波電漿的產生多使用915MHz或2.45GHz兩種頻率的微波電源，透過磁控管（Magnetron）產生微波源，並以導波管（Wave Guide）傳送特定震盪模式的微波，最後 ... , 微波電漿是材料薄膜沉積、精密加工和材料表面改質的一種重要工具。由於微波電漿可得到較高的離子密度和解離度，其離子反應活性強，製程再現 ...,Wang. 等(8)使用電漿弧光源離子在不同處理溫. 度下氮化AISI-304不銹鋼。 與其他不同電漿源相比較下，使用微. 波電漿有以下幾項優點：(1)可產生 ... ,般用在鍍膜的PECVD電漿源，工作壓力約2～10 Torr，其解離率小於1%；. MPCVD工作壓力約10～100 Torr範圍，但微波電場可以提高其解離率至5. ％；ECR-CVD ... ,到蝕刻、濺鍍及輔助化學氣相沉積鍍膜作說明，最後對目前盛行的高密度電漿源 ... Radio Frequency)電源及微波(MW, Microwave)電源，一般RF 的頻率13.56MHz，. ,摘要. 電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。本文將介紹國內在電漿源方面的研發，其中包. 括電感式電漿源，微波表面波電漿源,大氣 ...
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一般微波電漿的產生多使用915MHz或2.45GHz兩種頻率的微波電源，透過磁控管（Magnetron）產生微波源，並以導波管（Wave Guide）傳送特定震盪模式的微波，最後 ... https://www.junsun.com.tw 微波電漿源設計技術介紹：材料世界網
微波電漿是材料薄膜沉積、精密加工和材料表面改質的一種重要工具。由於微波電漿可得到較高的離子密度和解離度，其離子反應活性強，製程再現 ... http://www.materialsnet.com.tw 應用微波電漿進行不銹鋼表面氮化之研究 - 龍華科技大學
Wang. 等(8)使用電漿弧光源離子在不同處理溫. 度下氮化AISI-304不銹鋼。 與其他不同電漿源相比較下，使用微. 波電漿有以下幾項優點：(1)可產生 ... https://www.lhu.edu.tw 第二章文獻回顧
般用在鍍膜的PECVD電漿源，工作壓力約2～10 Torr，其解離率小於1%；. MPCVD工作壓力約10～100 Torr範圍，但微波電場可以提高其解離率至5. ％；ECR-CVD ... https://ir.nctu.edu.tw 電漿反應器與原理
到蝕刻、濺鍍及輔助化學氣相沉積鍍膜作說明，最後對目前盛行的高密度電漿源 ... Radio Frequency)電源及微波(MW, Microwave)電源，一般RF 的頻率13.56MHz，. http://ebooks.lib.ntu.edu.tw 電漿源原理與應用之介紹
摘要. 電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。本文將介紹國內在電漿源方面的研發，其中包. 括電感式電漿源，微波表面波電漿源,大氣 ... http://psroc.phys.ntu.edu.tw |