去光阻原理
本發明提供一種去除光阻層的方法，包含以下步驟：首先，提供一光阻層，該光阻層表面具有一硬殼結構，接著對該光阻層進行一加熱步驟，在該加熱步驟之後，對該光阻層進行一電漿步驟， ... ,因為負光阻產生交連作用(Cross-linking)，光阻比較不易去除，常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP (N-methyl-pyrrolidinone)。 ... 光阻剝離製程必須避免光阻回沾問題，有關光阻 ... ,2020年5月19日 — 因為光阻材料為耐酸不耐鹼的物質，所以製作電路板時，常用氫氧化鈉之類的強鹼溶液剝除電鍍光阻材料，效果也非常好。,光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中的關鍵 ... ,以半導體製程為例，光阻劑在不同光源條件下透過高分子斷鏈或交聯反應，搭配顯影製程製作出圖案，以利後續進行擴散、蝕刻、薄膜製程，再以去光阻劑去除光阻層與清洗晶圓表面雜質 ... ,光阻去除可去除離子植入或蝕刻步驟之後的光阻薄膜與殘留物。 為了清除微粒、汙染物、殘留物、以及其它不必要的材料，晶圓清洗步驟會在整個製造過程中重複執行多次。 濕式處理也會用於晶圓清洗、以及光阻去除和蝕刻應用。 電漿晶邊清洗是透過去除晶圓邊緣區域中可能影響元件面積的不必要材料來提升晶粒良率。 ,濕式蝕刻主要是利用有機溶液對光阻進行結構性的破壞，使光阻溶於有機 溶液中，達成去光阻之目的。 以這種方法進行光阻去除的溶劑，主要有丙酮 (Acetoone)及芳香族(phenol ...,2023年5月9日 — 光阻材料是有機物一般以碳、氫、氧化合物為主體，一般都用硫酸根或氫氧根離子破壞碳氫氧鍵，達到光阻去除的目的，傳統光阻剝離劑多是採用DMSO (二甲基亞碸) ... ,濕式去光阻法是利用有機溶液，. 將光阻材料溶解而達到去光阻之目的，. 所使用之有機溶劑如N-Methyl-. Pyrolidinone(NMP)，Dimethyl Sulfoxide. (DMSO)或Aminoethoxy ethanol等 ...
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TWI656414B - 去除光阻層的方法
本發明提供一種去除光阻層的方法，包含以下步驟：首先，提供一光阻層，該光阻層表面具有一硬殼結構，接著對該光阻層進行一加熱步驟，在該加熱步驟之後，對該光阻層進行一電漿步驟， ... https://patents.google.com 乾膜光阻去除(Dry Film Stripping)
因為負光阻產生交連作用(Cross-linking)，光阻比較不易去除，常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP (N-methyl-pyrrolidinone)。 ... 光阻剝離製程必須避免光阻回沾問題，有關光阻 ... https://www.gptc.com.tw 了解去光阻及蝕刻(striping&etching)
2020年5月19日 — 因為光阻材料為耐酸不耐鹼的物質，所以製作電路板時，常用氫氧化鈉之類的強鹼溶液剝除電鍍光阻材料，效果也非常好。 https://www.applichem.com.tw 光阻劑- 維基百科，自由的百科全書
光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中的關鍵 ... https://zh.wikipedia.org 光阻劑是什麼？光阻劑和去光阻劑成分、差異
以半導體製程為例，光阻劑在不同光源條件下透過高分子斷鏈或交聯反應，搭配顯影製程製作出圖案，以利後續進行擴散、蝕刻、薄膜製程，再以去光阻劑去除光阻層與清洗晶圓表面雜質 ... https://www.echemsemi.com 光阻去除與晶圓清洗產品 - Lam Research
光阻去除可去除離子植入或蝕刻步驟之後的光阻薄膜與殘留物。 為了清除微粒、汙染物、殘留物、以及其它不必要的材料，晶圓清洗步驟會在整個製造過程中重複執行多次。 濕式處理也會用於晶圓清洗、以及光阻去除和蝕刻應用。 電漿晶邊清洗是透過去除晶圓邊緣區域中可能影響元件面積的不必要材料來提升晶粒良率。 https://www.lamresearch.com 光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務
濕式蝕刻主要是利用有機溶液對光阻進行結構性的破壞，使光阻溶於有機 溶液中，達成去光阻之目的。 以這種方法進行光阻去除的溶劑，主要有丙酮 (Acetoone)及芳香族(phenol ... https://web.tnu.edu.tw 半導體光阻剝離PR Strip 製程介紹
2023年5月9日 — 光阻材料是有機物一般以碳、氫、氧化合物為主體，一般都用硫酸根或氫氧根離子破壞碳氫氧鍵，達到光阻去除的目的，傳統光阻剝離劑多是採用DMSO (二甲基亞碸) ... https://www.scientech.com.tw 濕式化學品在半導體製程中之應用
濕式去光阻法是利用有機溶液，. 將光阻材料溶解而達到去光阻之目的，. 所使用之有機溶劑如N-Methyl-. Pyrolidinone(NMP)，Dimethyl Sulfoxide. (DMSO)或Aminoethoxy ethanol等 ... https://www.materialsnet.com.t |