半導體 電漿
由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿因其在材料處理上的特殊性質，故在半導體製程中廣泛的被應用。然而雖. 然電漿有許多應用上的優點，卻也因為複雜的反應機制會造成蝕刻結構的變化與傷. ,隨著科技日益進步電漿也廣泛的應用在半導體製造中，像在薄膜沉積製程中的濺鍍(Sputtering)、電漿化學氣相沉積(PECVD) ;蝕刻製程中的乾式蝕刻(Dry etching) ;在佈植技術方面 ... ,由 林世凱 著作 · 2010 · 被引用 1 次 — 工學院半導體材料與製程設備學程. 碩士論文. 研究電漿蝕刻技術製作奈米級光阻線. Utilization of plasma etching technique for studing the fabrication of. ,由 彭元宗 著作 · 2005 — 營實力，本文中以半導體製程薄膜化學氣相沉積中之電漿輔助化學氣相沉積. (Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition)為研究對象，討論隨著製程演進而發生. ,蝕刻製程會移除晶圓表面的特定區域，以沉積其它材料。 「乾式」(電漿) 蝕刻是用於電路清晰度步驟，而「濕式」蝕刻(使用化學浴) 主要用於清潔晶圓。 乾式蝕刻是半導體 ... ,2021年6月27日 — 在電漿中產生的紫外線光能有效破壞表面汙染物的有機鍵結，這有助於分解油脂(oil)與油膏(grease)，接著由電漿中產生的高能氧物質進行清洗。 這些物質與有機 ... ,由 李安平 著作 — 此外在半導體製程應. 用上，在晶圓座通常亦施加另一射頻電源，可獨立控. 制離子能量與電流，對於半導體製程精確度與重現性. 之掌握極為重要。 在ICP 之射頻電場中，電子 ... ,2021年6月27日 — 電漿包含正離子、電子、中性氣體原子或分子、紫外線以及激發態氣體原子和分子，它們可以攜帶大量內能（電漿會發光是因為這些激發態中性粒子弛豫到能量較低 ... ,2021年6月27日 — 表面的材料被蝕刻掉，轉化為氣體並由真空系統去除，表面積大大增加，提高了表面性能，使材料易於浸濕。 電漿表面蝕刻於印刷、粘合和噴漆之前進行， ...
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 半導體 電漿 相關參考資料
國立交通大學機械工程研究所碩士論文
由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電漿因其在材料處理上的特殊性質，故在半導體製程中廣泛的被應用。然而雖. 然電漿有許多應用上的優點，卻也因為複雜的反應機制會造成蝕刻結構的變化與傷. https://ir.nctu.edu.tw 奇妙的電漿與電漿的應用 - 國家實驗研究院
隨著科技日益進步電漿也廣泛的應用在半導體製造中，像在薄膜沉積製程中的濺鍍(Sputtering)、電漿化學氣相沉積(PECVD) ;蝕刻製程中的乾式蝕刻(Dry etching) ;在佈植技術方面 ... https://www.narlabs.org.tw 工學院半導體材料與製程設備學程 - 國立交通大學
由 林世凱 著作 · 2010 · 被引用 1 次 — 工學院半導體材料與製程設備學程. 碩士論文. 研究電漿蝕刻技術製作奈米級光阻線. Utilization of plasma etching technique for studing the fabrication of. https://ir.nctu.edu.tw 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏
由 彭元宗 著作 · 2005 — 營實力，本文中以半導體製程薄膜化學氣相沉積中之電漿輔助化學氣相沉積. (Plasma Enhance Chemical Vapor Deposition)為研究對象，討論隨著製程演進而發生. https://ir.nctu.edu.tw 蝕刻
蝕刻製程會移除晶圓表面的特定區域，以沉積其它材料。 「乾式」(電漿) 蝕刻是用於電路清晰度步驟，而「濕式」蝕刻(使用化學浴) 主要用於清潔晶圓。 乾式蝕刻是半導體 ... https://www.appliedmaterials.c 電漿清洗(Plasma Cleaning) - 文章資訊 - 原晶半導體設備
2021年6月27日 — 在電漿中產生的紫外線光能有效破壞表面汙染物的有機鍵結，這有助於分解油脂(oil)與油膏(grease)，接著由電漿中產生的高能氧物質進行清洗。 這些物質與有機 ... https://www.atom-semi.com 電漿源原理與應用之介紹
由 李安平 著作 — 此外在半導體製程應. 用上，在晶圓座通常亦施加另一射頻電源，可獨立控. 制離子能量與電流，對於半導體製程精確度與重現性. 之掌握極為重要。 在ICP 之射頻電場中，電子 ... http://psroc.phys.ntu.edu.tw 電漿處理簡述 - 原晶半導體設備
2021年6月27日 — 電漿包含正離子、電子、中性氣體原子或分子、紫外線以及激發態氣體原子和分子，它們可以攜帶大量內能（電漿會發光是因為這些激發態中性粒子弛豫到能量較低 ... https://www.atom-semi.com 電漿表面蝕刻Plasma Etching - 文章資訊 - 原晶半導體設備
2021年6月27日 — 表面的材料被蝕刻掉，轉化為氣體並由真空系統去除，表面積大大增加，提高了表面性能，使材料易於浸濕。 電漿表面蝕刻於印刷、粘合和噴漆之前進行， ... https://www.atom-semi.com |