半導體製程廢水
產業節水與水再生技術手冊. 1-13. 造、IC 製造及IC 封裝測詴等流程，其製程及廢水排放特性分述如下：. 一、晶圓製造. 目前半導體製造之主要村料為矽晶圓，矽晶 ... ,雖然CMP. 製程是現代半導體業晶圓製造重要的技術，但是CMP 製程在無塵室. 中是一個高污染的製程，因為過程中使用了研磨液（Slurry）。一般. 而言，此研磨液 ... , 而IC 構裝廠的廢水，主要是用於電鍍製程，其參雜的多為金屬，包括鍍錫鉛、鍍鎳、鍍銀等。 半導體產業中矽晶圓、積體電路的製造過程相當 ..., 含氟酸廢液之製程廢水（氟酸廢水）：工廠製程所產生的廢水，排放至處理廠時，氫氟酸濃度高於1,000 mg/L以上，需要另外處理之廢水。,表3.1 半導體製程常使用之蝕刻液. ... 廢水、氟化鈣污泥、廢壓模膠、廢溶劑及廢晶圓等七項。 5. ... 半導體製程依材料大致可區分為以矽及砷化鎵二種為主，國內目. , 半導體業廢水處理流程簡介組員： 942714 蕭皓云942726 ... 4 C Acid DNH 3 D Base D Acid CH 2 SO4 CHF 廠務廢水製程廢水純水化學藥劑; 8. 1.,半導體產業的廢水處理– 從廢棄物管理到資源回收. 為了執行半導體電路層的蝕刻、沉積、或洗淨等製程，半導體製造商在製造過程會使用各種不同的化學製藥劑。 ,混凝沉降. 水回收. 活性碳. 離子交換樹脂. 逆滲透技術. 紫外線燈氧化. 資源活化. 薄膜技術. 觸媒反應. 電化學. +. +. 備註: 以台積公司為例. ━ 半導體廠廢水處理單元 ... ,經處理合格後的廢水，依既設管線排放至科學園區管理局之污水處理廠進行後續綜合處理。本文將就半導體業的無機廢水處理做一概述，包括含氟酸廢液之製程廢水、 ... ,圖5 IC 製造廠製程中廢水污染物發生源. 6. Page 7. 環保技術輔導計畫. (A)晶片清洗廢水：H2SO4、H2O2、HF、NH4OH、HCl。 (B)去光阻廢水：二甲苯、乙酸丁酯 ...
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