zno蝕刻
對在太陽能電池中當透明電極使用的氧化鋅掺鋁薄膜進行濕式蝕刻製程，希望入射 ... 刻過程中發現，薄膜經蝕刻的形貌變化為由未蝕刻前的平坦表面形成粗糙面，再由 ... ,本論文主要目的在利用化學濕蝕刻方式探討蝕刻製程對AZO(ZnO:Al)薄膜之影響。首先藉由調控RF功率、薄膜厚度與高溫熱處理等參數來製備最佳之光電薄膜，其次， ... ,本論文主要目的在利用化學濕蝕刻方式探討AZO(ZnO:Al)薄膜於不同蝕刻參數下之蝕刻速率與蝕刻殘留之研究。首先藉由調控RF功率、基板溫度與高溫熱處理等參數 ... ,光電半導體材料中氧化鋅具有非常好的潛力，材料本身擁有非常多. 優點，具有易蝕刻、無毒性、價廉等優點，在熱穩定性上及化學穩定性. 上也有相當不錯的表現，在光 ... ,先經由探討使用未退火之鎵或銦摻雜氧化鋅電流散佈層於蝕刻後以不. 同RTA溫度熱處理對氮化銦鎵發光二極體光電特性之影響。再研究不同. 大小孔徑之鎵摻雜氧化 ... ,晶型的ZnO 易於蝕刻(c)非晶型結構的ZnO 表. 面粗糙度較ITO 平緩，有助於光電元件的發光. 效率及壽命的延長(d)非晶型的ZnO 有利於低. 溫成長，在可撓性基板上 ... , 二、氧化鋅透明導電膜的潛力與挑戰與ITO同樣屬於透明導電氧化 ... (原材料)、Mitsubishi Gas Chemical(蝕刻技術)與Sharp及Casio(面板製作)。,本論文主要研究氧化鋅鋁(AZO)薄膜沉積在玻璃、SiO2 與ITO 玻璃基板上，藉由改變蝕刻參數將薄膜表面形成具有奈米柱之結構。首先進行磁控濺鍍AZO 薄膜之參數 ... ,本論文主要目的在利用化學濕蝕刻方式探討AZO(ZnO:Al)薄膜於不同蝕刻參數下之蝕刻速率與蝕刻殘留之研究。首先藉由調控RF功率、基板溫度與高溫熱處理等參數 ... ,另外ZnO本身便是一種透明導電金屬氧化物材料，在Raimondi（1970）[23] 的研究 .... 以噴霧熱解方式製備ZnO:Cr薄膜，並浸泡於HCl溶液中與ZnO比較蝕刻速率，蝕刻.
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另外ZnO本身便是一種透明導電金屬氧化物材料，在Raimondi（1970）[23] 的研究 .... 以噴霧熱解方式製備ZnO:Cr薄膜，並浸泡於HCl溶液中與ZnO比較蝕刻速率，蝕刻. http://blog.ncue.edu.tw |