schottky barrier中文

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2016年5月10日 — 蕭特基二極體(SCHOTTKY BARRIER DIODE) 之簡介: 蕭特基二極體它與一般P/N 矽二極體不同,一般二極體是由P 型與N 型接合而成, 是半導體與半導體之結合,然而 ... ,利用通過金屬與半導體的結合產生的肖特基屏障的二極管。以Planar和Trench產品的2種結構為基礎,具備多種包裝的肖特基勢壘二極管(Schottky Barrier Diode)組合。 ,Schottky勢壘,即肖特基勢壘(Schottky Barrier),是指具有整流特性的金屬-半導體接觸,即具有大的勢壘高度,以及摻雜濃度比導帶或價帶上態密度低的金屬-半導體接觸, ... ,2017年8月7日 — 肖特基二极管是以其发明人肖特基博士(Schottky)命名的,是肖特基势垒二极管(Schottky Barrier Diode,缩写成SBD)的简称。 肖特基二极管原理及结构. ,蕭特基堅強二極體是利用大順向電流來發熱。發熱後漏電流(IR)變大,同時外殼溫度和環境溫度也會跟著上升。一但散熱設計失常,就會造成發熱超過散熱,無法達到熱平衡,因而 ...,蕭特基能障(英語:Schottky barrier),是指具有整流特性的金屬-半導體界面,就如同二極體具有整流特性。蕭特基能障(障壁)相較於PN接面最大的區別在於具有較低的接 ... ,中文詞彙. 學術名詞 電子計算機名詞 · Schottky barrier diode · 蕭特基障壁二極體. 以Schottky barrier diode進行詞彙精確檢索結果. 出處/學術領域. 英文詞彙. 中文詞彙. ,蕭特基能障(Schottky barrier)是由德國物理學家蕭特基(Walter Hans Schottky)於1914年所提出,金屬與半導體接觸會形成一道能障(Φb),這彷彿一道牆阻礙電子在兩者之間的流動,這牆壁的高度是由「金屬的功函數」(Work function, W)及「半導體材料的電子親和力」( ...

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schottky barrier中文 相關參考資料
FORMOSA 蕭特基二極體(SCHOTTKY BARRIER DIODE) 簡介

2016年5月10日 — 蕭特基二極體(SCHOTTKY BARRIER DIODE) 之簡介: 蕭特基二極體它與一般P/N 矽二極體不同,一般二極體是由P 型與N 型接合而成, 是半導體與半導體之結合,然而 ...

https://www.flying1688.com

Schottky Barrier Diode

利用通過金屬與半導體的結合產生的肖特基屏障的二極管。以Planar和Trench產品的2種結構為基礎,具備多種包裝的肖特基勢壘二極管(Schottky Barrier Diode)組合。

https://www.elecbiz.com.tw

Schottky勢壘_百度百科

Schottky勢壘,即肖特基勢壘(Schottky Barrier),是指具有整流特性的金屬-半導體接觸,即具有大的勢壘高度,以及摻雜濃度比導帶或價帶上態密度低的金屬-半導體接觸, ...

https://baike.baidu.hk

一文读懂肖特基二极管的原理、优势缺点及应用 - MCU加油站

2017年8月7日 — 肖特基二极管是以其发明人肖特基博士(Schottky)命名的,是肖特基势垒二极管(Schottky Barrier Diode,缩写成SBD)的简称。 肖特基二极管原理及结构.

https://mcu.eetrend.com

構造和特色:蕭特基二極體(SBD) | 電子小百科- Electronics ...

蕭特基堅強二極體是利用大順向電流來發熱。發熱後漏電流(IR)變大,同時外殼溫度和環境溫度也會跟著上升。一但散熱設計失常,就會造成發熱超過散熱,無法達到熱平衡,因而 ...

https://www.rohm.com.tw

蕭特基能障 - 維基百科

蕭特基能障(英語:Schottky barrier),是指具有整流特性的金屬-半導體界面,就如同二極體具有整流特性。蕭特基能障(障壁)相較於PN接面最大的區別在於具有較低的接 ...

https://zh.wikipedia.org

蕭特基障壁二極體 - 樂詞網- 國家教育研究院

中文詞彙. 學術名詞 電子計算機名詞 · Schottky barrier diode · 蕭特基障壁二極體. 以Schottky barrier diode進行詞彙精確檢索結果. 出處/學術領域. 英文詞彙. 中文詞彙.

https://terms.naer.edu.tw

電子也走單行道?金屬與半導體的奇妙互動

蕭特基能障(Schottky barrier)是由德國物理學家蕭特基(Walter Hans Schottky)於1914年所提出,金屬與半導體接觸會形成一道能障(Φb),這彷彿一道牆阻礙電子在兩者之間的流動,這牆壁的高度是由「金屬的功函數」(Work function, W)及「半導體材料的電子親和力」( ...

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