optical proximity correction中文
,OPC光罩Optical Proximity Correction Mask。光學近接修邊襯光罩。 OPC技術是利用各種專業軟體在傳統光罩上加各種不同 ... ,中文摘要. 光學顯影技術(Optical lithography) 一直是晶圓製造過程中重要的一環, ... 學鄰近修正(Optical proximity correct, OPC)計算來校正光罩上的圖形,但是這類. ,光學接近修正(Optical Proximity Correction;OPC)是讓現有光刻設備能夠不斷向下挑戰微影尺寸極限的一種技術。隨著制程製程的微縮、微影光罩技術的盛行,晶圓廠 ... ,在各種解析度增強技術的方法之中,光學鄰近修正. (optical proximity correction, OPC)是額外考慮未來光罩在曝光時會產生的繞射. 效應,為了避免曝光後的結果與預期 ... ,光學鄰近效應修正(Optical. Proximity Correction, OPC)方法是一. 種將解析度提高的技術(Resolution. Enhancement Technique, RET), 一. 般是使用數學計算的方式 ... ,中文摘要: 在半導體製程裡,光學鄰近修正(Optical proximity correction, OPC)是一種常用來改善光罩圖形失真問題的光. 學蝕刻方法,可以藉由它來補償原始的光罩 ...
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