opc光學修正
光學接近修正(Optical Proximity Correction；OPC)是讓現有光刻設備能夠不斷向下挑戰微影尺寸極限的一種技術。隨著制程製程的微縮、微影光罩 ...,光学邻近效应修正首先于250nm技术节点被引入报道提光刻工艺中。OPC软件根据事先确定的规则对设计图形做光学邻近效应修正。这种方法的关键是修正规则，它 ... ,光學接近修正(Optical Proximity Correction；OPC)是讓現有光刻設備能夠不斷向下挑戰微影尺寸極限的一種技術。隨著制程製程的微縮、微影光罩技術的盛行，晶圓廠 ... ,光學接近修正(Optical Proximity Correction；OPC)是讓現有光刻設備能夠不斷向下挑戰微影尺寸極限的一種技術。隨著制程製程的微縮、微影光罩技術的盛行，晶圓廠 ... ,光學接近修正(Optical Proximity Correction；OPC)是讓現有光刻設備能夠不斷向下挑戰微影尺寸極限的一種技術。隨著制程製程的微縮、微影光罩技術的盛行，晶圓廠 ... ,在各種解析度增強技術的方法之中，光學鄰近修正. （optical proximity correction, OPC）是額外考慮未來光罩在曝光時會產生的繞射. 效應，為了避免曝光後的結果與預期 ... ,光學鄰近效應修正（Optical. Proximity Correction, OPC）方法是一. 種將解析度提高的技術（Resolution. Enhancement Technique, RET）， 一. 般是使用數學計算的方式 ... ,中文摘要： 在半導體製程裡，光學鄰近修正(Optical proximity correction, OPC)是一種常用來改善光罩圖形失真問題的光. 學蝕刻方法，可以藉由它來補償原始的光罩 ...
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