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Indium Tin Oxide [ITO] Sputter Target used for Magnetron Sputtering Physical Vapour Deposition. Composition is (In2O3/SnO2 90/10 WT%). Custom ... , 電阻比(resistivity) 愈小愈好,通常ρ <10-4 Ωּcm ... 濺鍍ITO,使沉積製程之控制更趨容易,各式TCO材料開始 ... ITO 組成在In2O3/SnO2 = 90/10時.,按照90 / 10重量比的化合物熔点约为1800°C,密度为7.14克/毫升。各种ITO化合物的颜色范围从浅黄色到深绿色或深灰色。它在真空下蒸镀或溅射,形成透明导电层, ... , 銦錫氧化物(Indium Tin Oxide;ITO)是由90%的銦(Indium)加10%的錫(Tin)所組成,主要用於LCD產業中TFT與CF間的透明導電層。, ITO(Indium Tin Oxide;銦錫氧化物)是用於TFT與Color Filter間的透明導電層,透過90%的銦(Indium)加10%的錫(Tin)組成的ITO薄膜,再鍍在觸控 ...,捲式鍍膜設備已開發出,在PET 材料上被覆<100nm 氧化銦錫(ITO)鍍層厚度 ..... 後,在0.1 Pa 工作壓力下,進行濺射ITO 靶材. (90/10 wt.%)分別為5、10、15 分鐘。 8 ... ,符合觸控面板所要求的耐高溫測驗(160℃,30分鐘)、恆溫恆濕測驗(60℃,90% ..... 合金靶材以磁控濺鍍法也做出7×10-5Ω.cm的低電阻薄膜,此時即進入使用ITO. ,1. 透明導電膜. ITO. ITO是什麼? ▫ ITO=Indium Tin Oxide(In. 2. O. 3. +SnO. 2. ) ▫ ITO的成分=90wt% In. 2. O. 3. 與10wt% SnO. 2. 混合物 ...
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