ito導電原理
Outline. 1. ITO及各種透明導電氧化物材料的介紹. 透明導電氧化物(Transparent Conductive Oxide, TCO). 2. TCO 導電原理. 的. 3. TCO 光學性質. 的. 4. TCO薄膜之品質控制. 5. TCO 薄膜之市場應用及未來發展 ..., 觸摸屏（TP）用ITO 導電膜玻璃按感應原理可以分為電阻式、電容感應式、紅外線式以及表面聲波式，目前市場上應用較多的以電容感應式為主。 近年來，隨著智慧型手機的普及，電容感應式觸摸屏應用越來越廣泛。 電容感應式觸摸屏在觸摸屏表面鍍上ITO 導電膜，並製作成ITO 線條，這樣在導電體內形成一個低電壓 ...,首先將ITO成分之粉末以液態之分散劑均勻懸浮於. 液體中，再以旋鍍(Spinning Coating)或浸鍍. (Dipping)之方式於被鍍物表面形成一層液態薄膜，. 其厚度約在1μm左右，最後再以高溫將液體蒸發，. 並將ITO粉末燒結成為緻密薄膜狀。 ▫ 磁控濺射法：. 利用磁控濺射方式將ITO靶材原料沈積至基材上。 基材. ▫ 玻璃. ▫ 透明塑膠：PC、PET ... ,ITO:Indium Tin Oxide的縮寫銦錫氧化物（ITO）薄膜，具備有極佳的導電特性（電阻係數可至2 × 10-4 Ω-cm下），及可見光（400~700nm）之透光率≧85%，一直是學術界及工業界積極研究應用之對象。ITO薄膜的導電機制，係利用Sn摻入In2O3取代In時所多出的一個電子，及氧的缺位產生的電洞(1)；以促使ITO薄膜之電子結構傳導特性 ... ,濺鍍的原理主要是利用輝光放電(glow discharge)以氬(Ar)離子去撞擊靶材，. 靶材的原子被打出來而堆積在基板表面 ... 直流濺鍍通常用於金屬鍍膜，對於不導電的陶瓷材料我們則. 選用射頻(RF)濺鍍的方式來製作薄膜。 ... 們使用濺鍍機來濺鍍ITO 薄膜材料，事前必須找出合適的濺鍍條件，因此本論. 文在參考過文獻上的資料後選擇將腔 ... ,先發展出以真空蒸鍍方式量產ITO 透明導電薄膜，因其具有易於光蝕刻加工、高. 可見光穿透率 ... 照ITO 透明導電薄膜的導電性不同，其所應用的範圍從觸控面板、太陽電池到液 ... 八） 光電元件導電膜，如太陽能電池、 發光二極體、光電晶體。 （九） 有機發光二極體電極。 四、TCO 薄膜的導電原理-------[b]. (n-type TCO). ◇ 材料之導電率σ. ,透明導電膜是指兼有高可視光透過率（可視光波長領域為380～. 780nm透過率為80％）、高電傳導度（電阻在10-3Ωcm 以下）兩種性. 質的薄膜。 金屬超薄膜. Au、Ag、Pd、Pt、Cu etc. (膜厚：50～150Հ）. 氧化物半導體薄膜. In. 2. O. 3. 、SnO. 2. 、ZnO etc. ITO（ I di Ti O id ）. ITO（ Indium Tin Oxide ）. 氧化銦（In. 2. O3)上再Dope上1～5 ... , ITO導電玻璃及相關透明導電膜之原理及應用勝華科技股份有限公司黃敬佩TEL:(04)25318899 ext. 7751 e-mail: [email protected] 2006.06.07 Outline 1. ITO及各種透明導電氧化物材料的介紹透明導電氧化物(Transparent Conductive Oxide, TCO) 2. TCO的導電原理3. TCO的光學性質4. TCO薄膜之品質 ...,金屬材料本來就可導電，是良好的紅外線反射體，同時也會反射可見光，其自由載子的濃度約為1023/cm3，使. 得金屬的電漿 ... 人所注意的透明導電膜材料，其中ITO 薄膜常被用於平面顯示器（Flat panel display, FPD）中當透明電極材料，近 ..... 其設計原理如下：如圖13 所示，圖中電壓電流輸出屬非對稱雙極脈衝直流，故兼具. 正及負的 ... ,膜，此時氧化銦薄膜的導電性來自於晶格結構上的本質缺陷(intrinsic defect)。至. 1980 年代，磁控濺鍍(magnetron sputtering)的開發，利用低溫成膜製程，不論在. 玻璃及塑膠基板均能夠達到低電阻率、高穿透性的氧化銦錫(Indium. TinOxide,ITO)薄膜。2000 年之後，主要的透明導電薄膜應用以氧化銦錫(ITO). 材料為主，此後磁控濺鍍 ...
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