duv原理
這個原理也比較直觀，就是盡可能的捨棄一些Mask的空間低頻成分，讓含有更精細結構的高頻成分進入物鏡從而成像。從原理上來講，Mask上凡是 ..., ... 應用光學成像的原理，將電子線路圖形投影至已經均勻塗佈好光阻的晶 ... 及193nm的DUV光源，而波長13.5nm的極紫外線光源簡稱EUV 則為下 ...,沒有這個頁面的資訊。瞭解原因 , 液體中曝光微影的原理早在1980年以前即被應用，只是當時的應用範圍主要 ... 系統（optics）與光阻材料及計上亦與深紫外光（DUV）微影截然不同。, , 紫外線（Ultraviolet或簡稱UV）/ 深紫外線DUV=== 紫外線（Ultraviolet或簡稱UV）是波長比可見., 圖二投影式(Projection)光學曝光系統與光罩呈像原理。 ... 深紫外光(DUV：Deep Ultraviolet)：光源波長300nm以下，使用「準分子雷射(Excimer ..., 無奈之下，人們只能透過沉浸式曝光、多重曝光等手段，將 DUV 一路推到 10 奈米階段。 目前 ASML 的 EUV 光刻機使用 40 對蔡司鏡面構成光路，每個 ...,為了讓線寬盡量細小，光罩的設計必須非常精細，光源的波長也越短越好，目前已經可量產的電晶體最小線寬為45奈米，是以波長193奈米的深紫外光（DUV）做為微影 ... ,300nm ~ 450 nm. DUV. 100 nm ~ 300 nm KrF(248nm); ArF(193nm); F2(157). EUV. 10nm ~ 100 nm ... 類似投影機原理，將光罩上的圖. 形投影到光阻上。優點就是 ...
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