binary光罩
民國九十八年，台積公司與光罩基板供應商合作，成. 功發展出超二元基板（Super Binary Blank），能夠改善20奈. 米微影技術的曝影聚焦範圍（Process Window）、光罩 ... ,Leading the way to next generation reticle technology. 半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。 ,而製作光罩的基礎材料，即光罩基板(Mask Blanks)。最主要的產品依基板特性分為Binary及Half-Tone(KrF/ArF)兩種，若再依所塗佈的光阻分類，可再細分成Optical ... ,過去傳統光罩（Binary Mask）都用濕式蝕刻法（wet etch），因為其本身蝕刻特性，用來做0.13um或0.1um光罩相當困難。乾式蝕刻法（dry etch，使用電漿）具有不等向 ... , 於是光罩上的圖案便完整的傳遞到晶片的感光材料上，此即為所謂的曝光(Exposure)步驟。於曝光之後，再經過顯影(Development)程序，就如同洗相片 ...,內外學者著手改善光罩清洗方法，以降低Haze 的產生。 目前已發表的改善方法 ... 圖2 光罩基本組成[1]. 早期在微影製程中所使用的傳統式光罩為二元強度光罩（Binary. ,1.傳統性光罩（Binary Mask 5”/6”/7” inch）。 2.光學近距修正光罩（Optical Proximity Correction Mask）的製作銷售。 3.相位移光罩（Phase Shift 6 ...
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5.2 技術領導地位 - TSMC
民國九十八年，台積公司與光罩基板供應商合作，成. 功發展出超二元基板（Super Binary Blank），能夠改善20奈. 米微影技術的曝影聚焦範圍（Process Window）、光罩 ... http://www.tsmc.com 光罩 - TCE
Leading the way to next generation reticle technology. 半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。 https://www.tce.com.tw 光罩基板Blanks
而製作光罩的基礎材料，即光罩基板(Mask Blanks)。最主要的產品依基板特性分為Binary及Half-Tone(KrF/ArF)兩種，若再依所塗佈的光阻分類，可再細分成Optical ... http://www.topco-global.com 光罩工業及其製程技術之探討 - CTIMES
過去傳統光罩（Binary Mask）都用濕式蝕刻法（wet etch），因為其本身蝕刻特性，用來做0.13um或0.1um光罩相當困難。乾式蝕刻法（dry etch，使用電漿）具有不等向 ... https://www.ctimes.com.tw 北美智權報第93期：相位移光罩技術與半導體微影製程
於是光罩上的圖案便完整的傳遞到晶片的感光材料上，此即為所謂的曝光(Exposure)步驟。於曝光之後，再經過顯影(Development)程序，就如同洗相片 ... http://www.naipo.com 國立交通大學機構典藏- 交通大學
內外學者著手改善光罩清洗方法，以降低Haze 的產生。 目前已發表的改善方法 ... 圖2 光罩基本組成[1]. 早期在微影製程中所使用的傳統式光罩為二元強度光罩（Binary. https://ir.nctu.edu.tw 業務與服務 - 台灣美日先進光罩股份有限公司
1.傳統性光罩（Binary Mask 5”/6”/7” inch）。 2.光學近距修正光罩（Optical Proximity Correction Mask）的製作銷售。 3.相位移光罩（Phase Shift 6 ... http://www.pdmc.com.tw |