Lam 薄膜
Lam Research領先市場的ALTUS®系統結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術,可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 ,晶邊清洗可在製程步驟之間把晶圓邊緣上不要的罩幕(mask)、殘留物和薄膜去除。如果不清洗乾淨,這些物質會成為缺陷的來源。例如,它們會在隨後的製程中剝落並 ... ,為了實現先進的薄膜應用,某些薄膜需被穩定化─ 而其它的則需被強化,以提升元件效能─ 這些需求都可利用Lam Research的SOLA® UVTP 系列產品所提供的專用 ... ,因此,高品質的介電層薄膜層特別地重要,以避免日益嚴重的串擾(cross-talk)和元件失效可能性。 Lam Research的SPEED® HDP-CVD產品可為高品質的間隙填充提供 ... ,透過特定應用的製程與硬體選項,Lam Research的Striker®單晶圓ALD(原子層沉積)產品能以最低的擁有成本實現業界最佳的薄膜技術與缺陷效能,為這些高難度需求 ... ,其他的應用則要求介電層薄膜非常平滑且無缺陷,因為即使是輕微的缺陷,都會在後續的薄膜層上被顯著地放大。 Lam Research的VECTOR® PECVD產品是專為 ... ,Lam Research以其薄膜刻蝕和清洗設備而聞名,而Novellus的特長則是薄膜生長。一家公司是做薄膜的“加法”而另一家是做薄膜的“減法”。無論是金屬薄膜還是各種 ... ,想知道我們每天使用的電子產品背後的故事嗎? 我們每天都在考慮,並且一直在創新以實現最新的電子設備。這就是為什麼如今幾乎所有高級芯片都採用Lam ... , 創造無瑕疵的薄膜. 沉積製程可形成半導體元件中的介電(絕緣)和金屬(導電)材料層。取決於製造 ...,為確保這些新的製程技術在新晶片準備投產時便已就緒,Lam的科學家和工程師需 ... 我們領先市場的完備產品組合,包括薄膜沉積、電漿蝕刻、光阻去除和晶圓清洗 ...
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Lam 薄膜 相關參考資料
ALTUS系列產品- Lam Research
Lam Research領先市場的ALTUS®系統結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術,可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 https://www.lamresearch.com CORONUS系列產品- Lam Research
晶邊清洗可在製程步驟之間把晶圓邊緣上不要的罩幕(mask)、殘留物和薄膜去除。如果不清洗乾淨,這些物質會成為缺陷的來源。例如,它們會在隨後的製程中剝落並 ... https://www.lamresearch.com SOLA系列產品- Lam Research
為了實現先進的薄膜應用,某些薄膜需被穩定化─ 而其它的則需被強化,以提升元件效能─ 這些需求都可利用Lam Research的SOLA® UVTP 系列產品所提供的專用 ... https://www.lamresearch.com SPEED系列產品- Lam Research
因此,高品質的介電層薄膜層特別地重要,以避免日益嚴重的串擾(cross-talk)和元件失效可能性。 Lam Research的SPEED® HDP-CVD產品可為高品質的間隙填充提供 ... https://www.lamresearch.com STRIKER系列產品- Lam Research
透過特定應用的製程與硬體選項,Lam Research的Striker®單晶圓ALD(原子層沉積)產品能以最低的擁有成本實現業界最佳的薄膜技術與缺陷效能,為這些高難度需求 ... https://www.lamresearch.com VECTOR系列產品- Lam Research
其他的應用則要求介電層薄膜非常平滑且無缺陷,因為即使是輕微的缺陷,都會在後續的薄膜層上被顯著地放大。 Lam Research的VECTOR® PECVD產品是專為 ... https://www.lamresearch.com 半導體設備製造業山雨欲來Lam Research收購Novellus求自保 ...
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