BHF 化學
BHF(二氧化矽蝕刻液). 商品編號：BH001 CAS No.： 濃度： 規格：電子級包裝(定價)：4L(請詢價) 20kg(請詢價). 回上層. 皇宇化學材料有限公司. ,品項 BHF氫氟酸蝕刻液, SDS中文. LCD/LED/太陽能業務窗口- 臧先生 [email protected] 0978-182-733. IC業務窗口- 黃先生 [email protected] 0963-059-554. ,半導體晶圓製程中有五大污染物：微粒、金屬不純物、有機污染物、自然生成氧化層及晶圓表面的微粗糙等，常用化學品有SC-1(APM)、SC-2(HPM)、SPM、HF及BHF等，SC-1及SC-2 ... ,晶圓洗淨、石英管洗淨、化學機械研磨後洗淨、混酸原料。 產能：, 45,000 MT/年. 氟 ... High Purity Buffered Hydrofluoric Acid/With Surfactant (BHF/BHFU). 用途 ... ,BHF. 稀釋之氫氟酸. NH4F/HF/H2O. 污染物對半導體元件電性的影響. 1.塵粒（Particle). 在元件的製作過程中，塵粒主要的問題是對光罩（mask）的影響。在每一製程成相之. 前 ... ,氫氟酸是氟化氫的水溶液，具有強烈的腐蝕性，純氟化氫有時也稱作無水氫氟酸。 氫氟酸. IUPAC名. Hydrofluoric acid. 別名, 氟化氫. 識別. CAS號 · 7664-39-3 check Y. ,泡。 O (BHF): 應用於清除矽晶圓表面自然生成的 氧化層，可使用稀釋後的氫氟酸(0.49%~ 2%)或是以氫氟酸與氟化銨所生成的緩衝 溶液HF/NH4F=1:200~400，在室溫下進行 15~30秒的反應。 ,在BHF氟酸中添加界面活性劑形成BHF-U，將其列為一類。 · 不會影響氧化膜的蝕刻效果，且可以提高潤濕性、防止粒子附著、防止金屬污染、抑制Si表面的蝕刻。 ,緩衝氧化物刻蝕劑( BOE )，也稱為緩衝氟化氫(BHF 或Buffered HF )，是一種用在微小尺度加工的溼刻蝕劑。它的主要用途是蝕刻二氧化矽( SiO 2 -displaystyle -ce ... ,□電子級BOE or BHF(濃度依客戶需求) □電子級氫氟酸(HF 49%) □電子級醋酸(CH3COOH) □電子級PGMEA. 產品用途：半導體及光電業界-蝕刻、洗淨、擴散等製程使用. 產品特長 ...
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BHF(二氧化矽蝕刻液) - 產品項目
BHF(二氧化矽蝕刻液). 商品編號：BH001 CAS No.： 濃度： 規格：電子級包裝(定價)：4L(請詢價) 20kg(請詢價). 回上層. 皇宇化學材料有限公司. https://kingyuchemicals.com.tw HF (氫氟酸)
品項 BHF氫氟酸蝕刻液, SDS中文. LCD/LED/太陽能業務窗口- 臧先生 [email protected] 0978-182-733. IC業務窗口- 黃先生 [email protected] 0963-059-554. https://www.sfchem.com.tw RCA Clean製程-Grand Process Technology Corporation.
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泡。 O (BHF): 應用於清除矽晶圓表面自然生成的 氧化層，可使用稀釋後的氫氟酸(0.49%~ 2%)或是以氫氟酸與氟化銨所生成的緩衝 溶液HF/NH4F=1:200~400，在室溫下進行 15~30秒的反應。 https://www.materialsnet.com.t 產品中心- 蝕刻劑
在BHF氟酸中添加界面活性劑形成BHF-U，將其列為一類。 · 不會影響氧化膜的蝕刻效果，且可以提高潤濕性、防止粒子附著、防止金屬污染、抑制Si表面的蝕刻。 https://www.taiwandaikin.com 緩衝氧化物刻蝕劑 - 維基百科
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□電子級BOE or BHF(濃度依客戶需求) □電子級氫氟酸(HF 49%) □電子級醋酸(CH3COOH) □電子級PGMEA. 產品用途：半導體及光電業界-蝕刻、洗淨、擴散等製程使用. 產品特長 ... http://www.inotec.com.tw |