電 漿 鞘
由 林兆焄 著作 · 2005 — 2.2.1 電漿形成原理與特性. 電漿的定義是一團氣體原子或分子，其中包含自由電子、氣體離子、 ... 電極，基板等）之間的過渡區域，形成一個鞘層（sheath，或稱plasma. ,電漿製程技術. 4. Plasma Sheaths. ▫ Plasmas, quasi neutral (n i. ≈ n e. ), joined to the wall surface across thin positively charged layers called 鞘 ... ,和電漿體接觸的牆壁聚集負電荷，此負電荷吸引電漿體中帶正電的粒子，推開電子，因而形成的一層薄膜。 2. ... 此電漿鞘會阻止太空船之無線電通訊。 ,電漿是具有等量正電荷和負電荷的離子氣體. • 更精確的定義：電漿是有著帶電 ... 平行板電極(電容耦合型). 電漿系統. 電漿. 射頻功率. 暗區或. 鞘層. 電極. 到真空幫浦 ... ,名詞解釋： 1.和電漿體接觸的牆壁聚集負電荷，此負電荷吸引電漿體中帶正電的粒子，推開電子，因而形成的一層薄膜。 2.極音速物體穿越大氣由熱產生的電漿體包圍此物體而 ... ,幾個迪拜長度(Debye length)，稱之為電漿鞘層(plasma sheath)，在. 鞘層中，離子密度大於電子密度。另外由於電子的流失以及離子趨前. 屏蔽容器壁表面電子，故在前鞘 ... ,平行板電漿系統. 電漿. 射頻功率. 暗區. 或. 鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. Photo Courtesy: UT Dallas. Wafer location: 6. 離子化(Ionization). ,由 李安平 著作 — 例如在電漿. 蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速. 後轟擊矽晶圓，使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速. 與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。 ,由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電子受感應電場加熱的機制可分為兩類，一是發生於肌膚深度內的碰撞（歐. 姆）加熱，再則發生於主電漿（Bulk Plasma）中電子與鞘層間的能量轉換，由於. 此機制為低碰撞頻率 ... ,鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. 4. 離子化 e＊ + A. A+ + 2 e. • 離子化碰撞產生電子和離子. • 它維持穩定電漿. • 在氣體中隨時存在之游離電子在電場下加速獲得能.
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 電 漿 鞘 相關參考資料
第二章文獻回顧
由 林兆焄 著作 · 2005 — 2.2.1 電漿形成原理與特性. 電漿的定義是一團氣體原子或分子，其中包含自由電子、氣體離子、 ... 電極，基板等）之間的過渡區域，形成一個鞘層（sheath，或稱plasma. https://ir.nctu.edu.tw 電漿製程技術 - 興大材料
電漿製程技術. 4. Plasma Sheaths. ▫ Plasmas, quasi neutral (n i. ≈ n e. ), joined to the wall surface across thin positively charged layers called 鞘 ... http://www.mse.nchu.edu.tw plasma sheath - 電漿鞘 - 國家教育研究院雙語詞彙
和電漿體接觸的牆壁聚集負電荷，此負電荷吸引電漿體中帶正電的粒子，推開電子，因而形成的一層薄膜。 2. ... 此電漿鞘會阻止太空船之無線電通訊。 https://terms.naer.edu.tw Chapter 7 電漿的基礎原理
電漿是具有等量正電荷和負電荷的離子氣體. • 更精確的定義：電漿是有著帶電 ... 平行板電極(電容耦合型). 電漿系統. 電漿. 射頻功率. 暗區或. 鞘層. 電極. 到真空幫浦 ... https://pdf4pro.com 電漿鞘- 教育百科
名詞解釋： 1.和電漿體接觸的牆壁聚集負電荷，此負電荷吸引電漿體中帶正電的粒子，推開電子，因而形成的一層薄膜。 2.極音速物體穿越大氣由熱產生的電漿體包圍此物體而 ... https://pedia.cloud.edu.tw 蕭錫鍊博士合成矽奈米線之電漿化學汽相沉積系統組裝測試
幾個迪拜長度(Debye length)，稱之為電漿鞘層(plasma sheath)，在. 鞘層中，離子密度大於電子密度。另外由於電子的流失以及離子趨前. 屏蔽容器壁表面電子，故在前鞘 ... http://thuir.thu.edu.tw Ch7 Plasma
平行板電漿系統. 電漿. 射頻功率. 暗區. 或. 鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. Photo Courtesy: UT Dallas. Wafer location: 6. 離子化(Ionization). http://homepage.ntu.edu.tw 電漿源原理與應用之介紹
由 李安平 著作 — 例如在電漿. 蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速. 後轟擊矽晶圓，使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速. 與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。 http://psroc.phys.ntu.edu.tw 國立交通大學機械工程研究所碩士論文
由 張朝雯 著作 · 2003 · 被引用 1 次 — 電子受感應電場加熱的機制可分為兩類，一是發生於肌膚深度內的碰撞（歐. 姆）加熱，再則發生於主電漿（Bulk Plasma）中電子與鞘層間的能量轉換，由於. 此機制為低碰撞頻率 ... https://ir.nctu.edu.tw 第五章電漿基礎原理
鞘層. 電極. 至真空幫浦. 陰極. 4. 離子化 e＊ + A. A+ + 2 e. • 離子化碰撞產生電子和離子. • 它維持穩定電漿. • 在氣體中隨時存在之游離電子在電場下加速獲得能. http://homepage.ntu.edu.tw |