電漿電鍍
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濺鍍（sputtering）是利用電漿（plasma）對靶材料進行離子轟擊（ion bombardment），而將靶材料表面的原子撞擊出來，這些靶原子以氣體分子型式發射出來， ... http://www.uvat.com 電漿反應器與原理
不同放電方. 式其離子化程度也不同，由小於0.1%到100%都有，視放電形式及操作條件而. 異，而一般用在PECVD 鍍膜的電漿源其解離率小於1%，近幾年由於對鍍膜 ... http://ebooks.lib.ntu.edu.tw 電漿技術在傳統表面處理產業之應用
電漿被. 覆除可比照電鍍直接被覆Cr 及黃金，但更可以金屬間化合物膜取. 代，兼具耐候性及耐拭性。但裝飾性鍍膜表面要求完整無暇，因此製. 程及環境條件較嚴苛， ... http://ebooks.lib.ntu.edu.tw 電漿聚合與高分子鍍膜技術：材料世界網
2003年5月5日 — 其乃利用電漿方式產生分子聚合法來製作高分子薄膜，它融合了高分子聚合與電漿鍍膜技術的理論，使得此合成膜的特性廣泛被研究與討論，其 ... https://www.materialsnet.com.t 電漿表面處理系統 - Junsun Tech
PlasGenie® 可用來進行表面清潔、表面改質、蝕刻、鍍膜、電漿接枝、離子植入等作業，非常適合應用在有機光電、半導體、生物醫學、奈米技術、材料開發等 ... https://www.junsun.com.tw 電漿鍍膜- PanSci 泛科學
現在鍍膜的製程耗能且材料有價格波動問題。相較於傳統真空環境製程，團隊的「大氣電漿鍍膜技術」省了一半以上的電力，也節省了60%的 ... https://pansci.asia 電漿鍍膜-真空鍍膜之蒸發鍍膜機的原理及性能@ 沖床加工 ...
在真空中制備膜層，包括鍍電漿設備制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沈積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一AP ... https://blog.xuite.net 電漿電鍍- 優惠推薦- 2021年1月|蝦皮購物台灣
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