離子束微影
2019年6月1日 — 聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術. Proximity Effect Correction for Helium Ion Beam Lithography. 李建霖 ； 蔡坤諭 ； 錢盛偉. 機械工業雜誌； ... ,使用光罩的微影術Ď. 不使用光罩的微影術. 直寫技術(direct writing). 電子束微影，離子束微影. ，雷射束Ď. 一般光刻方法Ď. M.A.Schimdt MIT opencourse ... ,學術名詞 電子計算機名詞, ion beam lithography, 離子束光刻. 學術名詞 電子工程, Ion beam lithography, 離子束微影術. 以離子束微影術 進行詞彙精確檢索結果 ... ,離子束(FIB)微影、奈米壓印(NIL)微影、X-光微影等等。參考. ITRS的資料(圖1)。 ... 此電子束微影技術有著不需光罩、高解析度、技術成熟等優. 點，在22奈米世代 ... ,使用介電層自聚焦式之離子束微影技術- 避開一般傳統光學系統所遇到的困難，以達到小於10奈米的微縮能力. ,2014年9月3日 — 離子投影術為歐洲重點研究的積體電路製程方法，為利用離子束進行投影式微影處理，製作過程中需搭配Stencil Mask遮擋不需離子束照射的部份， ... ,外光(extreme ultra violet, EUV)、離子束(ion beam). 等，其中電子束與X 光是最早被開發的曝光能源。 電子束微影技術是應用掃描式電子顯微鏡(scan- ning election ... ,2019年6月15日 — 聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術. Proximity Effect Correction for Helium Ion Beam Lithography. 李建霖1*、蔡坤諭2、錢盛偉3. 1 國立臺灣 ... ,2019年5月31日 — 摘要：本文介紹一種基於模型的鄰近效應修正方法，並研究其應用於氦離子束微影的可行性。該方法通過回饋補償機制疊代地修正圖案的形狀， ... ,電子束微影（electron beam lithography）指使用電子束在表面上製造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。 光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。
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Airiti Library華藝線上圖書館_聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正 ...
2019年6月1日 — 聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術. Proximity Effect Correction for Helium Ion Beam Lithography. 李建霖 ； 蔡坤諭 ； 錢盛偉. 機械工業雜誌； ... https://www.airitilibrary.com e-beam lithography
使用光罩的微影術Ď. 不使用光罩的微影術. 直寫技術(direct writing). 電子束微影，離子束微影. ，雷射束Ď. 一般光刻方法Ď. M.A.Schimdt MIT opencourse ... http://ezphysics.nchu.edu.tw Ion beam lithography - 離子束微影術 - 國家教育研究院雙語詞彙
學術名詞 電子計算機名詞, ion beam lithography, 離子束光刻. 學術名詞 電子工程, Ion beam lithography, 離子束微影術. 以離子束微影術 進行詞彙精確檢索結果 ... http://terms.naer.edu.tw Untitled - 國研院台灣半導體研究中心
離子束(FIB)微影、奈米壓印(NIL)微影、X-光微影等等。參考. ITRS的資料(圖1)。 ... 此電子束微影技術有著不需光罩、高解析度、技術成熟等優. 點，在22奈米世代 ... http://www.ndl.org.tw 使用介電層自聚焦式之離子束微影技術- 未來科技館Future Tech ...
使用介電層自聚焦式之離子束微影技術- 避開一般傳統光學系統所遇到的困難，以達到小於10奈米的微縮能力. https://www.futuretech.org.tw 微影技術持續精進半導體工業延續飛躍性成長 - DigiTimes
2014年9月3日 — 離子投影術為歐洲重點研究的積體電路製程方法，為利用離子束進行投影式微影處理，製作過程中需搭配Stencil Mask遮擋不需離子束照射的部份， ... http://www.digitimes.com.tw 科學發展月刊 - 國內學術電子期刊系統
外光(extreme ultra violet, EUV)、離子束(ion beam). 等，其中電子束與X 光是最早被開發的曝光能源。 電子束微影技術是應用掃描式電子顯微鏡(scan- ning election ... https://ejournal.stpi.narl.org 聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術 - 工業技術研究院
2019年6月15日 — 聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術. Proximity Effect Correction for Helium Ion Beam Lithography. 李建霖1*、蔡坤諭2、錢盛偉3. 1 國立臺灣 ... https://www.itri.org.tw 聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術 - 機械工業網
2019年5月31日 — 摘要：本文介紹一種基於模型的鄰近效應修正方法，並研究其應用於氦離子束微影的可行性。該方法通過回饋補償機制疊代地修正圖案的形狀， ... https://www.automan.tw 電子束微影- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
電子束微影（electron beam lithography）指使用電子束在表面上製造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。 光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。 https://zh.wikipedia.org |