銅 鉬 蝕刻 液
由 呂仁雄 著作 · 2005 · 被引用 1 次 — 目前無全文，華藝徵求您的同意授權。 我要授權. 銅/鉬酸性蝕刻液之研究. The Study of Copper/Molybdenum Etching in Acidic Solutions. 呂仁雄 , 碩士指導教授： ... ,由 陳漢邦 著作 · 2006 — 本實驗針對鋁、鉬、銅金屬在酸性蝕刻液中的蝕刻行為進行研究，除了使用單一金屬蝕刻之外，另外還使用雙層金屬結構進行蝕刻，主要可分為三個部分：第一部分 ... ,一种用于多层铜和钼的蚀刻溶液，包含：约5%重量至约30%重量的过氧化氢；约0.5%重量至约5%重量的有机酸；约0.2%重量至约5%重量的磷酸盐；约0.2%重量 ... ,本发明提供一种用于铜/钼金属的蚀刻液组成物，其包含：过氧化氢，其含量范围以蚀刻液组成物总重计为1至25重量％；氨基酸，其含量范围以蚀刻液组成物总重计 ... ,本发明属于液晶面板加工技术领域，尤其公开了一种用于铜/钼膜层的金属蚀刻液，该金属蚀刻液包括有机酸、磷酸盐及过氧化氢，且金属蚀刻液的pH不超过6。 ,論文摘要本實驗主要針對銅、鉬金屬在酸性蝕刻液中的行為作為進行研究，研究目的主要導因於未來TFT-LCD產業中銅導線結構極有可能沿用鋁導線製程中的雙層 ... ,一种用于铜/钼膜层的蚀刻液，包括均匀混合的氧化剂、酸性缓冲液、蚀刻调节剂、蚀刻抑制剂以及螯合剂；其中，在所述蚀刻液中，所述氧化剂的质量百分数为15％ ... ,本實驗針對銅溼式蝕刻之蝕刻液分為三個部分討論：第一部分為氯化銅-鹽酸-氯化銨系統 ... 在低蝕刻速率之硫酸-雙氧水-醋酸的實驗方面，由於醋酸會吸附在銅氧化物上，故會減緩蝕刻 ... 銅/鉬酸性蝕刻液之研究國立臺灣大學 呂仁雄; Lu, Jen-Shiung. ,隨著4K2K電視面板滲透率逐漸攀升，銅線製程已逐步取代鋁線製程，銅/鉬蝕刻液功用在於控制銅/鉬蝕刻的方向性以及調控銅/鉬被蝕刻的速率，藉此蝕刻出平整的銅 ... ,研究生: 呂仁雄. 研究生(外文):, Jen-Shiung Lu. 論文名稱: 銅/鉬酸性蝕刻液之研究. 論文名稱(外文):, The Study of Copper/Molybdenum Etching in Acidic Solutions.
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研究生: 呂仁雄. 研究生(外文):, Jen-Shiung Lu. 論文名稱: 銅/鉬酸性蝕刻液之研究. 論文名稱(外文):, The Study of Copper/Molybdenum Etching in Acidic Solutions. https://ndltd.ncl.edu.tw |