製程視窗
製程視窗. 請參閱成型視窗_6074。 上層主題: 術語彙編. 此內容是否有用？ 是; 否. 依以下條件精簡查詢. 除非另有說明，否則此作品受到Creative Commons 姓名標示- ... , 在製程演進方面，有兩大趨勢：一是製程的縮小，二是深紫外光的引進。 ... 和新的材料，由於製程視窗越來越小，我們必定會碰到很多新的挑戰、過去 ..., 在製程演進方面，有兩大趨勢：一是製程的縮小，二是深紫外光的引進。 ... 和新的材料，由於製程視窗越來越小，我們必定會碰到很多新的挑戰、過去 ...,論文名稱: 應用於奈米級微影之製程視窗分析系統. 論文名稱(外文):, Development of Process Window Analysis System for Nano-scale Lithography. 指導教授 ... , ... 的均勻度可能顯著縮小微影中的製程視窗，導致晶圓良率下降。 為了達到優良的光罩品質，光罩生產製程的每個步驟都面臨著技術挑戰；我們看到， ...,中文計劃名稱, 針對奈米製程微顯影之製程視窗分析系統研究 ... 微影製程的目的就是將佈局的圖樣順利轉印到光罩(Reticle/Mask)，再從光罩轉印到晶圓片上。 , 在某一可容許的變異範圍內，我們將其稱之為製程視窗(process window)。” “就目前的晶片設計流程來看，通常佈局(layout)工程師在完成DRC(設計 ..., 製程視窗是否有少許漂移，或者某個晶圓的局部形貌是否干擾了掃描式曝光機的聚焦？或者是否在多項因素共同作用下產生了細微缺陷，並讓晶圓廠 ..., 在第二節點(2nd node)進行單次曝光極紫外光圖案化(EUV patterning)的關鍵挑戰，是了解和減少那些可能造成製程視窗(process window)減小的 ...,製程視窗有兩種表現方式: A. 線寬對應聚焦深度(CD-Focus Matrix). 圖1(a)為製程視窗的一種表示方式-曝光劑. 量對應聚焦深度，又稱為柏桑圖(Bossung. Plot)[5]。透過 ...
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