硝酸製程
一种表面处理湿制程中硝酸的循环利用系统，包括收集储存槽、纳米级过滤器、蒸馏器、冷凝器及电沉积器，用以分离表面处理湿制程中待处理液的硝酸、水、硫酸以及 ... ,表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻. ▫ ... 蝕刻速率是測量在蝕刻製程中物質被移除的速. 率有多快的 ... 硝酸氧化鋁金屬而磷酸同時移除氧化鋁. ▫. ,半導體晶圓製程中有五大污染物：微粒、金屬不純物、有機污染物、自然生成氧化層 .... 在目前製程上多使用硝酸（HNO3）、氫氟酸（HF）及醋酸（CH3COOH）三種成份之 ... ,塗料化學品. 完整RS、SS系列硝化纖維素產品。 馬林酸樹脂。 瞭解更多. 電子化學品. IC半導體與TFT-LCD製程用高純度單酸： 70％硝酸、36％鹽酸、99.8％冰 ... ,原料晶圓在投入製程前，本身表面塗有2μm厚的AI2O3，與甘油混合溶液保護 ..... 最常使用的侵蝕液為硝酸(HNO3)及氫氟酸(HF)的水溶液或是醋酸(CH3COOH)溶液。 ,建議用途及限制使用：肥料及爆炸用之硝酸銨之製造；有機合成(染料、醫藥、爆炸物、硝化纖維. 素、硝酸鹽)； .... 製程密閉、局部排氣或整體換氣裝置。2 .排氣系統應用抗 ... ,硝酸（分子式：HNO3）是一種強酸，其水溶液俗稱硝鏹水。純硝酸為無色液體，沸點83℃，在-42℃時凝結為無色晶體，與水混溶，有強氧化性和腐蝕性。其不同濃度 ... ,職業暴露鹽酸、硝酸、硫酸引起之疾病認定參考指引. 頁1. 職業暴露鹽酸、 ..... (一)由所從事的行業及作業的製程，包括工作場所中的安全資. 料表，評估是否與鹽酸、硝酸 ... , 蝕刻是一種在Wafer、半導體、PCB等製程中常見的一種程序，主要是要透過 ... 大量的酸鹼溶液，基本上有氫氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、硫酸(H2SO4)、 ...
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表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻. ▫ ... 蝕刻速率是測量在蝕刻製程中物質被移除的速. 率有多快的 ... 硝酸氧化鋁金屬而磷酸同時移除氧化鋁. ▫. http://homepage.ntu.edu.tw RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司
半導體晶圓製程中有五大污染物：微粒、金屬不純物、有機污染物、自然生成氧化層 .... 在目前製程上多使用硝酸（HNO3）、氫氟酸（HF）及醋酸（CH3COOH）三種成份之 ... http://www.gptc.com.tw T.N.C. - 商品項目
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原料晶圓在投入製程前，本身表面塗有2μm厚的AI2O3，與甘油混合溶液保護 ..... 最常使用的侵蝕液為硝酸(HNO3)及氫氟酸(HF)的水溶液或是醋酸(CH3COOH)溶液。 http://www2.nsysu.edu.tw 安全資料表
建議用途及限制使用：肥料及爆炸用之硝酸銨之製造；有機合成(染料、醫藥、爆炸物、硝化纖維. 素、硝酸鹽)； .... 製程密閉、局部排氣或整體換氣裝置。2 .排氣系統應用抗 ... http://www.nfc.nctu.edu.tw 硝酸- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
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蝕刻是一種在Wafer、半導體、PCB等製程中常見的一種程序，主要是要透過 ... 大量的酸鹼溶液，基本上有氫氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、硫酸(H2SO4)、 ... http://www.techmaxasia.com |