氟系廢水處理
【用途】半導體、液晶面板工廠的矽晶圓製程中，常使用含氟酸的清洗液及蝕刻液。含氟廢液，一般大多會使用氟化鈣法(CaF2)來處理，即添加消石灰與廢液結合 ... , 90–91 年統計園區半導體廠研磨廢水處理方式統計2 (7 %) 單獨薄膜處理8 (27 %) 單獨化混處理6 (20 %) 匯入反應槽後3 (10 %) 匯入前端匯入氟系 ...,半導體工業所產生的含氟廢水，因其大量高濃度的特性一直是園區廢水處理的重要課題。半導體含氟廢水主要來自矽晶圓的濕式蝕刻及清洗製程，包括HF和NH4F等， ... ,目前半導體及光電廠廣泛使用氫氟酸(HF)作. 為濕式蝕刻之化學藥劑，其所排放HF 廢水除了濃. 度較高可委外回收再利用外，其他必須排放至廢水. 廠透過HF 處理 ... ,含氟廢水處理改善實例介紹. Improvements in Treatment of. Fluoride-containing Wastewater. 李清屏1 王浩豫2 賴宏昌3 張見清4. 134世界先進廠務部水氣化工程課. ,廢水處理廠之生產原料為廢污水，性質甚不穩定，. 其水質與量隨著工廠 ..... 氟系廢水. 半導體導線架鍍錫鉛製. 程之酸活化廢液及水洗. 水. 10. pH＝1-2. COD＝100. ,有磷酸或硫酸等混酸在其中；含氟廢水之處理主要添加氯化鈣形成氟. 化鈣的沈澱，但是當 ..... 表2.4 為園區半導體業及光電業者氟系廢水處理策略統計. (科學園區管理. ,摘要. 現今對於氟系廢水之處理已發展出很多技術，目前國內半導體廠含氟. 廢水排放流量大且濃度高，其氟離子濃度介於數百至數千mg/L，濃度變化. 非常大，其中 ... ,,另目前也有部份廠商將傳統混凝沉澱法處理氟酸系廢水之方式改為工研院開發之流體化床結晶處理技術(Fluidized Bed Crystallization，FBC)，利用直徑0.2~0.5mm矽 ...
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https://tw.answers.yahoo.com 環保技術e報第55期 - 台灣產業服務基金會
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