應 材 蝕刻設備
應用材料不斷發展出創新且具成本效益的解決方案,以因應蝕刻隨時面對的挑戰。這些變化可能是因為元件尺寸愈來愈小;所用材料的變更(例如高介電薄膜);元件架構多樣化(例如 ...,2020年8月10日 — 全新的Centris Sym3® Y 是應材最尖端的導體材料蝕刻系統,運用創新的射頻 ... 前五百大企業,是提供材料工程解決方案的領導者,我們的設備用來製造幾 ...,2015年7月14日 — 應用材料公司今日推出新一代蝕刻機台─Applied Centris™ Sym3™ 蝕刻系統,配備全新的蝕刻反應室,可進行原子等級的精密製造。為克服在晶片內部特徵之 ...,2021年5月21日 — 此外,京鼎原先專注的CVD(化學氣象沉積)、Etch(蝕刻) 設備,與記憶體景氣高度連動,隨著今年記憶體景氣熱絡,大廠也擴大投資力道,相關設備模組需求可望再 ...,2020年8月10日 — 為先進邏輯製程與新款記憶體生產助攻,應材推出新款蝕刻系統 ... 全球最大半導體設備供應商美商應材(Applied Materials)推出了全新蝕刻系統Sym3 Y, ...,2021年9月10日 — 全球半導體設備龍頭美商應用材料(Applied Material)昨(9)日釋出讓第三代 ... 開發更多產品,包括物理氣相沉積、化學氣相沉積、蝕刻和製程控制等。,2020年8月11日 — 為先進邏輯製程與新款記憶體生產助攻,應材推出新款蝕刻 ... 的需求,全球最大半導體設備供應商美商應材(Applied Materials)推出了全新蝕刻系統Sym3 ...
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蝕刻
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