半導體線寬
在中國知乎上有一個問題，「晶片產業中的光刻機是怎麼雕刻出遠遠小於自己波長線寬？」這個問題很有意思。 半導體製程1年一變，學生在學校看到 ..., MOS 的全名是「金屬－氧化物－半導體場效電晶體（MOSFET：Metal ... 註：製程線寬其實就是閘極長度，只是圖一看起來10 奈米的閘極長度反而比較 ...,半導體元件製造過程可概分為晶圓處理製程（Wafer Fabrication；簡稱Wafer ... 代製程規格之0.2微米接觸窗蝕刻技術以及符合0.18微米世代製程規格（線寬/間距=0.22. , 在TSMC預告2017年Q2量產10nm半導體晶片、預定7nm半導體製程將在2018年上半年進行量產、Intel也預計將10nm製程產品量產時程安排於2017下 ..., 討論台積電、三星的技術節點數字恐怕做過美化的問題引起不小的關注，這樣的問題其實在先前即為半導體業界所持續論戰，並在蘋果A9 晶片門 ..., 所謂的 XX 奈米指的是積體電路 MOSFET 電晶體柵極的寬度，也稱為柵長。 ... 目前，業界最重要的代工企業台積電、三星和格羅方德，半導體製程的 ..., , 在半導體製程常見的奈米製程其代表的是閘極長度，也就是製程線寬，又稱線寬。若閘極長度愈小，則電晶體愈小，若電晶體愈小則可以在更小的晶片 ...
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