半導體廠氫氟廢水cacl2加藥模式建立及減量之應用
洗滌水兩大類；其中我們又將製程含氟排水依氟離子濃度區分為：濃氫氟 ... 陳志雄"半導體廠含氟廢水CaCl2加藥異常改善實例" ，2004 半導體廠務技 ... 單元，將可以獲得良好污泥減量效果及穩定出流水水質。 ... 張王冠、鄒文源、洪仁陽，生物網膜技術應用於低污染水及廢水之處理， ... 作模式下與探討各處理系統之能力。 1. ,目前半導體及光電廠廣泛使用氫氟酸(HF)作. 為濕式蝕刻之化學藥劑，其所排放HF 廢水除了濃. 度較高可委外回收再利用外，其他必須排放至廢水. 廠透過HF 處理 ... ,圖5.10 半導體廠廢磷酸產生位置圖. ... 圖5.12 CaCl2-NaF 系統及含氟廢水- CaCl2 系統中氟化鈣之介穩區........ 51. 圖5.13 排放水中 ... 術，至1987 年成立台積電公司首度建立國內IC 專業代工策略模式， ... 蝕刻製程中會產生之廢棄物為蝕刻廢液，其成份常為氫氟酸、 ... 過量之加藥及過量之污泥量均造成成本之增加，因此就工廠而. ,本研究首先調查個案工廠現況的全廠用水成本，為評估水回收案建立基礎資. 料。再分別評估水 ... 表13 以淨現值分析應用之相關評估研究…………………………………………36 ... 酸鹼廢水處理方式僅以加藥中和，調整其廢水pH 值，加藥類型會有些許差 ... 另外，對於半導體廠濕式蝕刻及清洗製程排放的低濃度氫氟酸廢水及製程中. ,半導體廠氫氟廢水CaCl2 加藥模式建立及減量之應用賴明孝呂仁明連上舜1 台積電三廠廠務水處理課2 台積電三廠廠務水處理課3 台積電三廠廠務部摘要前言目前 ... ,半導體廠氫氟廢水 ... 加藥模式建立及減量之應用 ... [(A)- (B)]濃度差求出CaCl2 ... 加藥量(kg/D). HF廢水vs. CaCl. 2. 反應圖(F-濃度400mg/l x 500 CMD & pH=7). ,因此廢水處理廠之日常操作模式，應能克服進流水. 質與水量變動 ... 及廢水固液分離之污泥處理單元等，歸類分成以下主 ... 加藥設施子系統-通常包含酸鹼藥劑、氮磷營養鹽、混 ... 污泥減量、穩. 定 ... 第二pH調整槽：pH值調整於9-10間，添加CaCl2及 ... 氟系廢水. 半導體導線架鍍錫鉛製. 程之酸活化廢液及水洗. 水. 10. pH＝1-2. ,半導體廠需使用大量氫氟酸來清洗晶圓，而除了氫氟酸外也常常混 ... 4.2.3 在不同原水pH 條件及加藥比下所殘留硫酸根離子. 濃度 ... 圖4.4 含氟廢水加鈣化學反應後殘留磷酸離子濃度與加藥比的關係40 ... 放標準下，有效的控制加藥量，達到藥品減量的目標。 ... 高效率及佔地面積小之特性；目前科學園區已實際應用廠商包括有漢. ,半導體產品各種製程需使用大量含氟之化學品及氣體,最終皆會產生含氟. 廢水,以往皆視 ... 【關鍵詞】低濃度氫氟酸廢水、局部廢氣處理設施、中央廢氣洗滌塔、逆滲透處理 ... 本廠含氟廢水來源及處理方式如圖2 所示，主要來源為製程廢水及廢 ... NaOCL加藥泵 ... 純水製造系統中，本次我們將挑戰應用於製程洗滌廢水之回收系統。設 ... ,年建立結晶技術適合處理約500 mg F /l 低濃度含氟廢水模型廠能力，8 5. 年將此 ... 竹科學園區立生半導體公司， 處理量約漢磊科技股份有限公司6 倍， 處. 理含氟 ... 統加藥、 混凝、 沈澱處理技術， 主要理由是（ 1 ） 目前國內法規容許處. 理氫氟 ... 污泥減量或朝向廢棄物資源化方向努力， 是全球環保的共同趨勢， ... CaCl2儲槽.
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