光阻塗佈原理
,第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗佈在晶圓上表面. • 經由曝光製程將設計圖案轉移其上. • 非常類似於塗佈在照相機上的光敏. 感物質. 2. 光阻劑. 負光阻. • 經曝光後變不可. 溶. • 經顯影製程，未. 曝光部分 ... ,高解析力. ▫ 光阻越薄，解析力越高. ▫ 光阻越薄，對抗蝕刻和離子佈植能力也越. ▫ 抗蝕刻能力高. ▫ 好的附著力. ▫ 製程的自由度較大. ▫ 對於製程條件改變的容忍度也越大(製程較穩定). Page 12. 光阻的物理性質. ▫ 光阻必須承受的製程條件. ‧ 塗佈, 旋轉, 烘烤, 顯影. ‧ 蝕刻阻抗. ‧ 遮蔽離子佈植製程. 光阻效能的因素. ▫. 解析力. ▫. ,原理. ➢在晶片上塗一層感光材料，使用光源的半聚合光，經. 過以玻璃為主體的光罩後，打在感光材料上。 ➢經由光罩上的圖案，將使光源的入射光發生反射，未 ... 藉由適當的塗底，晶片表面的表面能將可以被調整到與光. 阻的表面能相當的程度，所以光阻對晶片表面的附著力便. 增強。 ◇HMDS塗佈方式. ➢旋轉塗怖：HMDS以液態方式 ... ,旋轉塗佈在成長薄膜的過程中沒有化學反應發生，由於不需要真空，而且薄膜可以大量快速地在基板上塗佈，成本極低適合工廠大量生產，但是塗佈的材料必須能 ... ,旋轉塗佈步驟. Step1：Substrate on Vacuum Chuck. Step 2：Dispense. Step 3：Spread. Speed (~500rpm). Step 4：Ramp Up to High. Spin Speed (1500~3000rpm). 光阻先覆蓋1/2 ~. 2/3 Wafer面積. 光阻完整覆蓋. Wafer面積. 最終膜厚/均. 勻度控制 ... ,光阻塗佈機(Spin Coater). 主要是用來作光阻的塗佈。 旋轉塗佈法(Spin Coating)是最廣為用來上光阻的方法，通常的做法是將定量的阻劑塗佈在晶圓中心，在藉由不同階段的轉速和時間控制，使阻劑均勻塗佈在晶圓表面上。 曝光機(Aligner). 主要是用來靠著光學成像原理，光線經過光罩成像到晶片表面上，晶片表面必須有如照相底片 ... ,光阻圖佈與軟烤(Soft baking) ➤光阻塗佈：使用「光阻塗佈機(Spin coater)」，以真空吸座吸住矽晶圓，由上方滴入光阻液並且使矽晶圓高速旋轉 ...
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101 華梵大學機電工程學系專題研究成果報告 - 華梵大學機電工程學系暨 ...
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第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗佈在晶圓上表面. • 經由曝光製程將設計圖案轉移其上. • 非常類似於塗佈在照相機上的光敏. 感物質. 2. 光阻劑. 負光阻. • 經曝光後變不可. 溶. • 經顯影製程，未. 曝光部分 ... http://homepage.ntu.edu.tw 半導體製程技術 - 聯合大學
高解析力. ▫ 光阻越薄，解析力越高. ▫ 光阻越薄，對抗蝕刻和離子佈植能力也越. ▫ 抗蝕刻能力高. ▫ 好的附著力. ▫ 製程的自由度較大. ▫ 對於製程條件改變的容忍度也越大(製程較穩定). Page 12. 光阻的物理性質. ▫ 光阻必須承受的製程條件. ‧ 塗佈, 旋轉, 烘烤, 顯影. ‧ 蝕刻阻抗. ‧ 遮蔽離子佈植製程. 光阻效能的因素. ▫. 解析力. ▫. http://web.nuu.edu.tw 微影
原理. ➢在晶片上塗一層感光材料，使用光源的半聚合光，經. 過以玻璃為主體的光罩後，打在感光材料上。 ➢經由光罩上的圖案，將使光源的入射光發生反射，未 ... 藉由適當的塗底，晶片表面的表面能將可以被調整到與光. 阻的表面能相當的程度，所以光阻對晶片表面的附著力便. 增強。 ◇HMDS塗佈方式. ➢旋轉塗怖：HMDS以液態方式 ... http://waoffice.ee.kuas.edu.tw 旋轉塗佈(Spin coating) - Ansforce
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旋轉塗佈步驟. Step1：Substrate on Vacuum Chuck. Step 2：Dispense. Step 3：Spread. Speed (~500rpm). Step 4：Ramp Up to High. Spin Speed (1500~3000rpm). 光阻先覆蓋1/2 ~. 2/3 Wafer面積. 光阻完整覆蓋. Wafer面積. 最終膜厚/均. 勻度控制 ... http://synrex.com 知識小百科
光阻塗佈機(Spin Coater). 主要是用來作光阻的塗佈。 旋轉塗佈法(Spin Coating)是最廣為用來上光阻的方法，通常的做法是將定量的阻劑塗佈在晶圓中心，在藉由不同階段的轉速和時間控制，使阻劑均勻塗佈在晶圓表面上。 曝光機(Aligner). 主要是用來靠著光學成像原理，光線經過光罩成像到晶片表面上，晶片表面必須有如照相底片 ... http://www.rmt.com.tw 黃光微影(Photolithography) - Ansforce
光阻圖佈與軟烤(Soft baking) ➤光阻塗佈：使用「光阻塗佈機(Spin coater)」，以真空吸座吸住矽晶圓，由上方滴入光阻液並且使矽晶圓高速旋轉 ... https://www.ansforce.com |